Technologie leptání křemíku
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Tato práce se zabývá technologií mokrého a suchého leptání křemíku. Zkoumá se použití vodného roztoku hydroxidu draselného. V suchých technikách se práce zaměřuje na plazmatické leptání křemíku směsí CF4+O2. U obou leptacích procesů jsou stanoveny důležité parametry leptání, jako je rychlost leptání křemíku, maskovacího materiálu, selektivita leptání, drsnost povrchu a podleptání masky. Řeší se zde i další pomocné a přípravné práce v technologii leptání. Konkrétně jde o vytváření masky v rezistu a v oxidu křemíku, litografii a leptání rezistu za pomoci kyslíkové plazmy.
This thesis deals with the silicon etching technology. It Examines using of water solution of potassium hydroxide. It focuses on plasma etching of silicon using mixture of CF4 and O2 as the dry way of etching. Important parameters of etching like etching rate of silicon and masking materials, etching selectivity, surface roughness and underetching of mask are determined for both ways. Some additional processes has been examined as well, namely creating of mask of resist and silicon dioxide, lithography process and etching of resist using oxygen plasma.
This thesis deals with the silicon etching technology. It Examines using of water solution of potassium hydroxide. It focuses on plasma etching of silicon using mixture of CF4 and O2 as the dry way of etching. Important parameters of etching like etching rate of silicon and masking materials, etching selectivity, surface roughness and underetching of mask are determined for both ways. Some additional processes has been examined as well, namely creating of mask of resist and silicon dioxide, lithography process and etching of resist using oxygen plasma.
Description
Citation
KRÁTKÝ, S. Technologie leptání křemíku [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2012.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Elektrotechnická výroba a management
Comittee
doc. Ing. Petr Bača, Ph.D. (předseda)
doc. Ing. Jiří Vaněk, Ph.D. (místopředseda)
Ing. Miroslav Zatloukal (člen)
doc. Ing. Jiří Maxa, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Marie Sedlaříková, CSc. (člen)
Date of acceptance
2012-06-06
Defence
Diplomant seznámil státní zkušební komisi s cíli a řešením své diplomové práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta.
Otázky u obhajoby:
Co by se stalo při použití izotropního leptání?
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení