Využití oxidu yttria pro vytváření antireflexních vrstev solárních článků

Loading...
Thumbnail Image
Date
ORCID
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Tato práce se zabývá depozicí ytrium oxidových vrstev na křemíkový substrát (P- typ) metodou magnetronového i reaktivního magnetronového naprašování. V práci jsou popsány provedené experiment a jejich výsledky, dále se práce zaměřuje na metodiku vyhodnocení nadeponovaných vrstev pomocí spektrofotometrie a FTIR. Dosažené výsledky spolu s budoucím vývojem práce jsou potom konzultovány v závěru.
This work deals with deposition of yttrium oxide layers on silicon substrate (P – type) by using magnetron and reactive magnetron sputtering. Experiments which were made are further described. After that, work is focused on evaluation of deposited layers by using FTIR measurement technique and spectrophotometry. At the end of the work results of experiments are discussed also with the future progress.
Description
Citation
DOSTÁL, V. Využití oxidu yttria pro vytváření antireflexních vrstev solárních článků [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2010.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Mikroelektronika
Comittee
prof. Ing. Jaromír Brzobohatý, CSc. (předseda) RNDr. Ladislav Mareček, CSc. (místopředseda) Ing. Roman Prokop, Ph.D. (člen) Ing. Martin Adámek, Ph.D. (člen) doc. Ing. Jiří Vaněk, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2010-06-08
Defence
Student seznámil komisi s obsahem diplomové práce a odpověděl na její otázky.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení
DOI
Collections
Citace PRO