Vlastnosti kovových vrstev realizovaných vakuovým napařováním

Loading...
Thumbnail Image
Date
ORCID
Mark
C
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Práce se zabývá vakuovým napařováním kovů, a to jak základními principy této technologie, tak i zkoumáním vlastností výsledné vrstvy. Je zde popsána funkce napařovacího zařízení a jeho jednotlivé části. Stěžejní část práce se zabývá napařováním mědi i dalších látek a vodivostí výsledného filmu ve vztahu k jeho tloušťce. Jako parametr při měření je zadána teplota substrátu.
This work deals with vacuum evaporation of metals, basic principles of this technology and exploring the properties of the resulting layer. It describes how vacuum evaporation works and its individual parts.The main part deals with evaporation of copper and other substances and the conductivity of the resulting film in relation to its thickness. As a parameter for measuring substrate temperature is specified.
Description
Citation
MILICHOVSKÝ, M. Vlastnosti kovových vrstev realizovaných vakuovým napařováním [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2011.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Mikroelektronika a technologie
Comittee
prof. Ing. Dalibor Biolek, CSc. (předseda) Ing. Daniel Bečvář, Ph.D. (místopředseda) doc. Ing. Pavel Šteffan, Ph.D. (člen) Ing. Jiří Špinka (člen) doc. Ing. Pavel Legát, CSc. (člen)
Date of acceptance
2011-06-13
Defence
Student seznámil komisi s řešením své bakalářské práce a zodpověděl následující dotazy. Vysvětlete, proč se neprováděl proces žíhání u experimentálních vzorků. Vysvětlete z jakých důvodů pro napařování byly zvolené Al (hliník), Ni (nikl), Cu (měď) a Ag (stříbro). Doporučte jiný způsob řízení napařovací rychlosti u Al (hliníku) a Ni (niklu).
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení
DOI
Collections
Citace PRO