Příprava a optické vlastnosti tenkých vrstev a vrstevnatých struktur pomocí plazmochemické depozice
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
B
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Diplomová práce je v teoretické části zaměřena na popis principu spektroskopické elipsometrie a tvorbu tenkých vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). V experimentální části je popsán depoziční systém, elipsometr a vyhodnocení změřených dat, materiály použité pro přípravu vzorků a průběh výroby vzorků. Byly připravovány jak jednoduché tak vícevrstvé struktury polymerních materiálů. Výsledky práce neprokázaly závislost optických vlastností materiálu na tloušťce vrstvy. Jsou zde popsány vlivy efektivního výkonu a depozičních směsí plynů na optické vlastnosti vrstev.
Thesis in theoretical part is focused on the principle of spectroscopic ellipsometry and formation of thin films by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). In the experimental part we describe the deposition system, ellipsometer and mathematical evaluation of ellipsometric data, materials used for film formation and processing of the samples. Single-layer and multilayer structures of polymeric materials were prepared. We revealed that the optical properties of thin films are independent of film thickness. We also described the effect of the effective power and deposition gas mixture on optical properties of thin films.
Thesis in theoretical part is focused on the principle of spectroscopic ellipsometry and formation of thin films by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). In the experimental part we describe the deposition system, ellipsometer and mathematical evaluation of ellipsometric data, materials used for film formation and processing of the samples. Single-layer and multilayer structures of polymeric materials were prepared. We revealed that the optical properties of thin films are independent of film thickness. We also described the effect of the effective power and deposition gas mixture on optical properties of thin films.
Description
Citation
KUCHARČÍK, J. Příprava a optické vlastnosti tenkých vrstev a vrstevnatých struktur pomocí plazmochemické depozice [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Elektrotechnická výroba a management
Comittee
prof. Ing. Karel Bartušek, DrSc. (předseda)
doc. Ing. Vítězslav Novák, Ph.D. (místopředseda)
Ing. Jiří Starý, Ph.D. (člen)
Ing. Miroslav Zatloukal (člen)
Ing. Ondřej Čech, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2014-06-11
Defence
Diplomant seznámil státní zkušební komisi s cíli a řešením své diplomové práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta.
Co způsobuje velký rozsah rezistivity daného materiálů?
Jaká je stálost vytvořených vrstev na vzduchu?
Byly měřeny povrchové energie?
Co způsobilo drastický propad průběhu vzorku 0,3 sccm v grafu závislosti šířky zakázaného pásu na efektivním výkonu?
Bylo provedeno opakované měření a statistické vyhodnocení změřených průběhů?
Jaká je transparentnost pro IR a UV spektrum záření?
Z jakého důvodu není použitá stejnosměrná plazma?
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení