Vliv pracovních podmínek v nízkovakuovém rastrovacím elektronovém mikroskopu na výsledky rentgenové analýzy
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Bakalárska práca sa zaoberá detekciou charakteristického röntgenového žiarenia a energiovo disperznou spektroskopiou v prostredí nízkovákuového rastrovacieho elektrónového mikroskopu. Opisuje detekciu röntgenového žiarenia pomocou silicon drifted detektoru, a tiež princíp kvalitatívnej a kvantitatívnej röntgenovej analýzy. Cieľom tejto práce je predviesť energiovo disperznú spektroskopiu známych prvkov za optimálnych podmienok a sledovať zmeny parametrov a výsledkov spektroskopie počas zmeny pracovných podmienok v nízkovákuovom rastrovacom elektrónovom mikroskope Vega3 XMU s Xflash 6|10 spektroskopom.
Bachelor’s thesis deals with detection of characteristic X-Ray and energy dispersive spectroscopy in the environment of low vacuum scanning electron microscope. Describes the detection of X-Ray by silicon drifted detector and also describes the principles of qualitative and quantitative X-Ray analysis. The objective of this thesis is to perform energy dispersive spectroscopy of known elements under the optimal conditions and to monitor changes of parameters and results of the spectroscopy during the change of working conditions in low vacuum scanning electron microscope Vega3 XMU with Xflash 6|10 spectroscope.
Bachelor’s thesis deals with detection of characteristic X-Ray and energy dispersive spectroscopy in the environment of low vacuum scanning electron microscope. Describes the detection of X-Ray by silicon drifted detector and also describes the principles of qualitative and quantitative X-Ray analysis. The objective of this thesis is to perform energy dispersive spectroscopy of known elements under the optimal conditions and to monitor changes of parameters and results of the spectroscopy during the change of working conditions in low vacuum scanning electron microscope Vega3 XMU with Xflash 6|10 spectroscope.
Description
Keywords
rastrovací elektrónový mikroskop, nízkovákuový rastrovací elektrónový mikroskop, charakteristické röntgenové žiarenie, silicon drifted detektor, energiovo disperzná spektroskopia, prvková analýza, scanning electron microscope, low vacuum scanning electron microscope, characteristic X-Ray, silicon drifted detector, energy dispersive spectroscopy, element analysis
Citation
HUDZIK, M. Vliv pracovních podmínek v nízkovakuovém rastrovacím elektronovém mikroskopu na výsledky rentgenové analýzy [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Mikroelektronika a technologie
Comittee
prof. Ing. Jaromír Kadlec, CSc. (předseda)
doc. Ing. Petr Bača, Ph.D. (místopředseda)
doc. Ing. Jiří Maxa, Ph.D. (člen)
Ing. Martin Frk, Ph.D. (člen)
Ing. Roman Prokop, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2014-06-16
Defence
Student seznámil státní zkušební komisi s cíli a řešením závěrečné vysokoškolské práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta.
Otázky v diskuzi:
Vysvětlete jaký je rozdíl mezi energiově disperzní analýzou (EDS) a rentgenově difrakční analýzou (XRD)?
Jaká plynou doporučení pro měření danými metodami?
Jak může ovlivnit primární svazek povrch zkoumaného materiálu?
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení