Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
P
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Disertační práce popisuje postupy použité při optimalizaci vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy pomocí elektronového litografu BS600 v laboratoři Elektronové litografie na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně. Elektronový litograf BS600 byl na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně vyvinut původně pro společnost Tesla v roce 1983, jeho vývoj však neustále pokračuje, jak je vidět i z publikací. Elektronový litograf BS600 je v dnešní době specifický urychlovacím napětím a světově jedinečným možností tvarovat svazek. Optimalizace vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy bylo dosaženo návrhem a realizací algoritmů generujících data pro řízení svazku elektronů. Algoritmy byly založeny na získání popisu obecné difraktivní struktury a jeho převodu na data řídící pohyb, velikost, tvar svazku, a dobu expozice. Výhodné se pro generování dat pro řízení elektronového litografu ukázalo být využití matematického popisu čar struktur. Samostatnou část disertační práce tvoří popis algoritmu a jeho použití vytvořeného za účelem snížení časové náročnosti kalibrace expozičního pole Elektronového litografu BS600.
This thesis describes several techniques for the optimization of the manufacturing of relief diffractive structures used as optical elements by Electron beam lithograph BS600 in the Electron beam laboratory of the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic. The Electron beam lithograph BS600 was originally developed and constructed in the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic for Tesla in 1983, but is still developing, which was published. The Electron been lithograph BS600 is specific in these days because of its accelerating potential and is unique in the world because of the possibility to shape the beam. The optimization of manufacturing of relief diffractive structures, used as optical elements, was mostly reached by analysis, bringing optimal solution for the required effect. Moreover, an algorithm was developed for driving the electron beam position, shape, size and the time of each elementary exposition. The analysis showed that is convenient to use mathematical description of separate lines of diffractive structures. A separate subject was carried out for the calibration of the exposition field of the Electron beam lithograph BS600.
This thesis describes several techniques for the optimization of the manufacturing of relief diffractive structures used as optical elements by Electron beam lithograph BS600 in the Electron beam laboratory of the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic. The Electron beam lithograph BS600 was originally developed and constructed in the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic for Tesla in 1983, but is still developing, which was published. The Electron been lithograph BS600 is specific in these days because of its accelerating potential and is unique in the world because of the possibility to shape the beam. The optimization of manufacturing of relief diffractive structures, used as optical elements, was mostly reached by analysis, bringing optimal solution for the required effect. Moreover, an algorithm was developed for driving the electron beam position, shape, size and the time of each elementary exposition. The analysis showed that is convenient to use mathematical description of separate lines of diffractive structures. A separate subject was carried out for the calibration of the exposition field of the Electron beam lithograph BS600.
Description
Citation
DANĚK, L. Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2009.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Mikroelektronika a technologie
Comittee
prof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda)
Mgr. Petr Klapetek, Ph.D. - oponent (člen)
doc. Ing. Jan Maschke, CSc. (člen)
Doc. Ing. František Urban, CSc. - oponent (člen)
Doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Vladislav Navrátil, CSc. (člen)
Date of acceptance
2009-12-14
Defence
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení