Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii

Dorotík, David

Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii

Mark

E

Publisher

Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií

Abstract

Bakalářské práce byla spojená s poznáním všeobecné problematiky nanášení tenkých vrstev metodami napařování a naprašování. Přípravou substrátu a jeho čištění před deponováním tenkých vrstev. Práce byla zaměřena na vlastnosti těchto tenkých vrstev v polovodičové technologii.
Bachelor theses were connected with knowledge of general problems of application of thin films by methods of sputtering and evaporation. Prepare the substrate and clean it before depositing thin layers. The work was focused on the properties of these thin films in semiconductor technology.

Keywords

Napařování, naprašování, polovodičová technika, tenké vrstvy., Sputtering, evaporation, semiconductor technology, thin films

Citation

DOROTÍK, D. Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2018.

Language of document

cs

Study field

Mikroelektronika a technologie

Comittee

prof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda) Ing. Tomáš Bžoněk (místopředseda) prof. Ing. Dalibor Biolek, CSc. (člen) Ing. Miroslav Zatloukal (člen) doc. Ing. Pavel Šteffan, Ph.D. (člen)

Date of acceptance

2018-06-12

Defence

Student seznámil státní zkušební komisi s cíli a řešením závěrečné práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta. Doplňující otázky: Naprašování probíhalo jaký způsobem ? Jaká byla čistota targetu ?

Result of defence

práce byla úspěšně obhájena

Document licence

Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení

URI

http://hdl.handle.net/11012/81747

Collections

2018

Citace PRO

Full item page