Příprava řezů vzorků a jejich analýza metodou SIMS
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract
Táto práca sa zaoberá možnosťami štúdia polovodičových súčastok pomocou metódy SIMS s dôrazom na testovanie rôznych parametrov merania a rôznych spôsobov prípravy vzoriek. V rámci tejto práce bol navrhnutý a otestovaný držiak vzorky kompatibilný s používaným zariadením ToF-SIMS$^{5}$ od spoločnosti IONTOF, ktorý je schopný nakláňať vzorky o definovaný uhol voči vodorovnej rovine. Tento držiak umožňuje opracovávanie vzoriek v hlavnej komore zariadenia ToF-SIMS$^5$ bez nutnosti presunu vzorky medzi zariadeniami a držiakmi. Tento držiak bol použitý opracovaniu hrany vzorky TIGBT tranzistora a zobrazeniu hrany krátera predchádzajúceho merania. Na TIGBT tranzistoroch boli zobrazované vnútorné štruktúry preparované rôznymi spôsobmi. Ďalej boli optimalizované parametre merania tenckých vrstiev na molybdén-kremíkovom multivrstvovom R\"{o}ntgenovom zrkadle a na indiových multivrstvách v GaN, kde bol pozorovaný vplyv teploty vzorky behom merania SIMS na výsledné hĺbkové proifly.
This thesis studies possible methods of semiconductor sample measurement by SIMS, with emphasis on testing different measurement parameters and sample preparation. Part of this master thesis deals with the design of a modified sample holder compatible with the used ToF-SIMS$^{5}$ instrument, IONTOF company, which is capable of tilting the sample by defined angle. This holder enables sample preparation in the main chamber of the instrument without the need of transferring the sample between instruments, which limits the probability of sample contamination. This sample holder was tested by ion machining of TIGBT sample edge and by imaging of a crater edge, created in previous measurement. Edge termination structures prepared by different techniques were measured on the TIGBT samples. Further measurements with the goal of optimizing the depth resolution for thin layers were done on Molybdenum-Silicon-multilayer X-Ray Mirror. Part of the measurements was focused on comparing depth profiles measured at low temperatures. For these measurements the samples with Indium multilayers in GaN substrate were used.
This thesis studies possible methods of semiconductor sample measurement by SIMS, with emphasis on testing different measurement parameters and sample preparation. Part of this master thesis deals with the design of a modified sample holder compatible with the used ToF-SIMS$^{5}$ instrument, IONTOF company, which is capable of tilting the sample by defined angle. This holder enables sample preparation in the main chamber of the instrument without the need of transferring the sample between instruments, which limits the probability of sample contamination. This sample holder was tested by ion machining of TIGBT sample edge and by imaging of a crater edge, created in previous measurement. Edge termination structures prepared by different techniques were measured on the TIGBT samples. Further measurements with the goal of optimizing the depth resolution for thin layers were done on Molybdenum-Silicon-multilayer X-Ray Mirror. Part of the measurements was focused on comparing depth profiles measured at low temperatures. For these measurements the samples with Indium multilayers in GaN substrate were used.
Description
Citation
KARLOVSKÝ, J. Příprava řezů vzorků a jejich analýza metodou SIMS [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2018.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Fyzikální inženýrství a nanotechnologie
Comittee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda)
prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda)
prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen)
prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen)
prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen)
prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Eduard Schmidt, CSc. (člen)
prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen)
RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
doc. Ing. Radek Kalousek, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2018-06-18
Defence
Jak pracuje zařízení na měření doby letu iontů, které jste používal?
Proč se používá k bombardování vzorků iontů bismutu?
Jaké problémy by mohlo způsobovat použití primárního svazku iontů gallia?
Jaké jiné ionty by bylo ještě vhodné použít?
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení