Microdefects in Czochralski Silicon

but.committeeprof. Ing. Jiří Švejcar, CSc. (předseda) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (člen) prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (člen)cs
but.defencePráce se detailně zabývá procesy růstu křemíkových krystalů Czochralského metodou a rozložením defektů v krystalech a následně i v křemíkových deskách. Dosažené výsledky jsou využívány ve firmě ON Semiconductor ČR pro návrh technologických postupů při růstu krystalů a vedou ke zvýšení kvality desek a ke snížení ekonomických nákladů.cs
but.jazykangličtina (English)
but.programFyzikální a materiálové inženýrstvícs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorSpousta, Jiříen
dc.contributor.authorVálek, Lukášen
dc.contributor.refereeFejfar, Antonínen
dc.contributor.refereeMikulík, Petren
dc.date.accessioned2019-06-14T11:04:50Z
dc.date.available2019-06-14T11:04:50Z
dc.date.created2012cs
dc.description.abstractDisertační práce se zabývá studiem defektů v monokrystalech Czochralskiho křemíku legovaných bórem. Práce studuje vznik kruhových obrazců vrstevných chyb pozorovaných na povrchu křemíkových desek po oxidaci. Hlavním cílem práce je objasnit mechanismy vzniku pozorovaného rozložení vrstevných chyb na studovaných deskách a vyvinout metody pro řízení tohoto jevu. Na základě experimentálních analýz a rozborů obecných mechanismů vzniku defektů jsou objasňovány vazby mezi vznikem defektů různého typu. Tyto jsou pak diskutovány v souvislosti s parametry krystalu i procesu jeho růstu. Takto sestavený model je využit pro vývoj procesu růstu krystalů, kterým je potlačen nadměrný vznik defektů ve studovaných deskách. Za účelem studia defektů jsou zaváděny a vyvíjeny nové analytické metody. Disertační práce byla vytvořena za podpory ON Semiconductor Czech Republic, Rožnov pod Radhoštěm.en
dc.description.abstractThe doctoral thesis deals with analyses of defects in single crystals of Czochralski silicon doped with boron. Mechanisms of formation of circular patterns of oxidation induced stacking faults are studied. The main goal of the work is to explain the mechanisms of formation of the observed defect patterns and to develop methods for control of this phenomenon. Mechanisms of defect formation in silicon are analyzed and the material is experimentally studied in order to explain relations between formation of defects of various kinds and to link these processes to parameters of the crystal and its growth. A qualitative model capturing all these relations is built and utilized to develop an optimized crystal growth process for suppression of excessive formation of the oxidation induced stacking faults. Novel methods are developed and implemented to support effective analyses of crystal defects. This doctoral thesis was written with the support of ON Semiconductor Czech Republic, Rožnov pod Radhoštěm.cs
dc.description.markPcs
dc.identifier.citationVÁLEK, L. Microdefects in Czochralski Silicon [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2012.cs
dc.identifier.other61911cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/20302
dc.language.isoencs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectKřemíken
dc.subjectCzochralskien
dc.subjectbóren
dc.subjectdefektyen
dc.subjectvrstevné chybyen
dc.subjectprecipitace kyslíkuen
dc.subjectCzochralski siliconcs
dc.subjectboroncs
dc.subjectmicrodefectscs
dc.subjectoxidation induced stacking faultscs
dc.subjectoxygen precipitationcs
dc.titleMicrodefects in Czochralski Siliconen
dc.title.alternativeMicrodefects in Czochralski Siliconcs
dc.typeTextcs
dc.type.driverdoctoralThesisen
dc.type.evskpdizertační prácecs
dcterms.dateAccepted2012-12-18cs
dcterms.modified2013-03-06-13:02:05cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta strojního inženýrstvícs
sync.item.dbid61911en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2020.03.31 00:29:55en
sync.item.modts2020.03.30 21:46:35en
thesis.disciplineFyzikální a materiálové inženýrstvícs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelDoktorskýcs
thesis.namePh.D.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 3 of 3
Loading...
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
8.34 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Loading...
Thumbnail Image
Name:
thesis-1.pdf
Size:
1.11 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
thesis-1.pdf
Loading...
Thumbnail Image
Name:
review_61911.html
Size:
1.64 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
review_61911.html
Collections