ŠUĽAN, D. Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014.
Student se seznámil s procesem reliéfní elektronové litografie. Zaměřil se především na rezistové procesy a odlišnosti při expozici elektrony o energiích 15 a 100 keV. V praktické části připravil několik substrátů a navrhl test citlivosti pro elektronový litograf Vistec EBPG5000+ ES. Po expozici a vyvolání provedl měření testů na kontaktním profilometru a sestrojil křivky citlivosti pro danou soustavu rezist-vývojka. Z těchto křivek pak vypočítal kritické dávky a kontrasty. Dále připravil test binárních mřížek, na které aplikoval korekce proximity efektu ze získaných křivek citlivosti. Zhotovené mřížky pak vyhodnotil na mikroskopu atomárních sil. Zadání práce bylo zcela splněno. Student během semestru docházel pravidelně na konzultace a po zaškolení na příslušných přístrojích postupoval samostatně. Výsledky jsou jasně a stručně interpretovány. Z formálního hlediska práce obsahuje překlepy a několik gramatických chyb. Jediným větším nedostatkem celé práce je chybně uvedený vztah pro PSF funkci, kde student popisuje tuto funkci, ale uvádí vztah pro tzv. modulační přenosovou funkci MTF, která vznikne Fourierovou transformací zmíněné funkce. I přes tento nedostatek se jedná o velmi zdařilou práci, jejíž výsledky jsou nezbytné pro optimalizaci procesu elektronové litografie na elektronovém litografu Vistec. Práci doporučuji k obhajobě.
Předložená práce v první části podává stručný přehled všeobecně známé teorie stojící v pozadí fyzikálně-chemických procesů probíhajících při interakci elektronového rezistu s elektronovým svazkem. V praktické části, časově nepochybně velmi náročné, student prokázal schopnost samostatné experimentální práce na značně složitém vědecko-technologickém přístroji jakým elektronový litograf je. Obsah předložené práce svědčí o pochopení zadání, poměr mezi teoretickou částí a její úroveň a zdařilou experimentální částí plně odpovídá bakalářskému stupni studia. Z hlediska formálního práce obsahuje značné množství gramatických chyb, nicméně působí poměrně čtivě a konzistentně. Z hlediska odborné úrovně práce obsahuje několik chyb. Rovnice (10) není rovnicí popisující rozložení hustoty absorbované energie v rezistu po dopadu elektronového svazku do bodu resp. rovnicí popisující Point Spread Function (PSF), ale rovnicí pro modulační přenosovou funkci (MTF). Autor také v části 1.2 směšuje funkci elektronově-optických čoček a vychylovacích cívek a neorientuje se dostatečně při rozlišování termoemisních, Shottkyho a autoemisních zdrojů elektronového svazku.
eVSKP id 74215