Show simple item record

An influence of electron beam on thin oxide films

dc.contributor.advisorČechal, Jansk
dc.contributor.authorKostyal, Michalsk
dc.date.accessioned2019-04-03T22:29:25Z
dc.date.available2019-04-03T22:29:25Z
dc.date.created2010cs
dc.identifier.citationKOSTYAL, M. Vliv elektronového svazku na tenké vrstvy oxidů [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2010.cs
dc.identifier.other29512cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/14112
dc.description.abstractBakalárska práca sa zaoberá skúmaním vplyvu elektrónového lúča rastrovacieho elektrónového mikroskopu na povrch vzorky SiO2/Si(100). V práci je stručne popísaná elektrónová mikroskopia a mikroskopia atomárnych síl. Hlavným riešeným problémom je pozorovaná zmena odtieňu pri pozorovaní vzorky SiO2/Si(100) rastrovacím elektrónovým mikroskopom. V práci je zistené, že na povrchu vzorky sa vytvárajú objekty o výške niekoľko nm. Zvyšok práce je potom venovaný meraniu závislosti výšky objektu na rôznych premenných. Merania sú väčšinou založené na selektívnom ožarovaní povrchu vzorky rastrovacím elektrónovým mikroskopom, meraní ožiarených častí pomocou mikroskopu atomárnych síl a vyhodnocovaní v aplikácie Gwyddion.sk
dc.description.abstractThis bachelor work deals with a study of the influence of electron beam of scanning electron microscope on the surface of the SiO2/Si (100) – sample. In the work the electron and atomic force microscopy briefly described. The main objective of experimental part is to describe variation in the brightness of sample SiO2/Si (100) in Scanning electron microscope images. In this study is found that on the sample surface are created objects few nm high. The rest of the work is then devoted to measuring the dependence of the object’s high on different variables. Experiments are generally based on the selective irradiation of the sample surface by scanning electron microscope, measurement of irradiated parts using atomic force microscope and evaluation in the application Gwyddion.en
dc.language.isoskcs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectelektrónový mikroskopsk
dc.subjectmikroskop atomárnych sílsk
dc.subjectkontaminácia vzorkysk
dc.subjectGwyddionsk
dc.subjectElectron microscopeen
dc.subjectAtomic force microscopeen
dc.subjectcontamination of the sampleen
dc.subjectGwyddionen
dc.titleVliv elektronového svazku na tenké vrstvy oxidůsk
dc.title.alternativeAn influence of electron beam on thin oxide filmsen
dc.typeTextcs
dcterms.dateAccepted2010-06-17cs
dcterms.modified2010-07-22-11:45:01cs
thesis.disciplineFyzikální inženýrství a nanotechnologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelBakalářskýcs
thesis.nameBc.cs
sync.item.dbid29512en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2021.11.12 09:03:48en
sync.item.modts2021.11.12 08:28:03en
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta strojního inženýrstvícs
dc.contributor.refereePrůša, Stanislavsk
dc.description.markAcs
dc.type.driverbachelorThesisen
dc.type.evskpbakalářská prácecs
but.committeeprof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) doc. RNDr. Josef Kuběna, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)cs
but.defencecs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
but.programAplikované vědy v inženýrstvícs
but.jazykslovenština (Slovak)


Files in this item

Thumbnail
Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record