Tvorba plazmonických mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie

Abstract

Tato bakalářská práce se zabývá výrobou plazmonických antén pomocí elektronové litografie. V první části jsou shrnuty informace o technologiích použitelných pro tvorbu kovových nano a mikrostruktur na křemíkovém a skleněném substrátu. V další části je popsána metoda elektronové litografie a technologie, které jsou pro ni používány. V závěrečné části jsou popsány provedené experimenty a vytvořen empirický model popisující závislost velikosti vyrobených struktur na parametrech litografie.

This beachelor’s thesis deals with a fabrication of plasmonic antennas using electron beam lithography. First section consists of summary of a technologies that can be used for production of metallic micro and nanostructures on silicon and glass substrate. Second section provides a description of electron beam lithography method and technologies that are used for it. Final part describes experiments, that were done and empiric model describing dependance of dimension of fabricated structures on lithographic parameters.