Příprava grafenových membrán vhodných pro depozici Ga

Loading...
Thumbnail Image
Date
ORCID
Mark
B
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract
Tato bakalářská práce se zabývá výrobou grafenových membrán, jenž by byly vhodné pro depozici atomů gallia. V první části charakterizujeme grafen. Druhá část je zaměřena na přípravu a zlepšení kvality procesu výroby grafenových vrstev pomocí atomárně hladkých Cu fólií. Ve třetí části jsou popsány grafenové membrány, techniky jejich výroby a specifické aplikace grafenových membrán. Ve čtvrté části je představeno rozhraní mezi galliovými a grafenovými vrstvami. Pátá část je praktická. Byl proveden růst grafenových vrstev na různých Cu fóliích, to vedlo k vyšší kvalitě grafenu rostlých na atomárně hladkých fóliích. Následně byla provedena výroba grafenových membrán a depozice atomů gallia.
This bachelor’s thesis deals with the production of graphene membranes, which would be suitable for the deposition of gallium atoms. In the first part is characterized graphene. The second part is focused on preparation and improvement the production of graphene layers via atomically flat Cu foils. In the third part are described graphene membranes, techniques of their production and specific applications of graphene membranes. The fourth part introduced interface between gallium and graphene layers. The fifth part is the practical part. Graphene was grown on different Cu foils which resulted in higher quality graphene grown on smooth foils. Subsequently, the production of graphene membranes and deposition of gallium atoms were done.
Description
Citation
SEVERA, J. Příprava grafenových membrán vhodných pro depozici Ga [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2019.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Fyzikální inženýrství a nanotechnologie
Comittee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) doc. Ing. Stanislav Průša, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) doc. Ing. Radek Kalousek, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Date of acceptance
2019-06-20
Defence
Po otázkách oponenta bylo dále diskutováno: Vztah toku částic a sil, kterým částice působí na podložku. Vliv rozdílu tlaků na mechanickou stabilitu membrány.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení
DOI
Collections
Citace PRO