Show simple item record

Růst vertikálního grafenu na slitině AlCu4Mg užitím PECVD techniky

dc.contributor.authorPolzer, Alešcs
dc.contributor.authorSedlák, Josefcs
dc.contributor.authorSedláček, Jancs
dc.contributor.authorBeneš, Liborcs
dc.contributor.authorMouralová, Kateřinacs
dc.date.accessioned2021-10-05T10:53:53Z
dc.date.available2021-10-05T10:53:53Z
dc.date.issued2021-10-02cs
dc.identifier.citationCoatings, MDPI. 2021, vol. 11, issue 9, p. 1-13.en
dc.identifier.issn2079-6412cs
dc.identifier.other172661cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/201751
dc.description.abstractVertical graphene, which belongs to nanomaterials, is a very promising tool for improving the useful properties of long-used and proven materials. Since the growth of vertical graphene is different on each base material and has specific deposition setting parameters, it is necessary to examine each base material separately. For this reason, a full factor design of experiment was performed with 2(6) = 64 rounds, which contained additional 5 central points, i.e., a total of 69 rounds of individual experiments, which was to examine the effect of input factors Temperature, Pressure, Flow, CH4, Plasma Power, and Annealing in H-2 on the growth of vertical graphene on aluminum alloy AlCu4Mg. The deposition was performed using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technology. Mainly, the occurrence of graphene was analyzed, which was confirmed by Raman spectroscopy, as well as its thickness. The characterization was performed using electron and transmission microscopy, including an atomic force microscope. It was found that the growth of graphene occurred in 7 cases and its thickness is affected only by the interaction flow (sccm) x pretreatment H-2 (sccm).en
dc.description.abstractVertikální grafen patřící mezi nanomateriály, je velmi slibným nástrojem pro zlepšení užitných vlastností dlouhodobě používaných a praxí ověřených materiálů. Vzhledem k tomu, že růst vertikálního grafenu je na každém základním materiálu odlišný a má specifické parametry nastavení depozice, je nezbytné zkoumat každý základní materiál zvlášť. Z toho důvodu byl proveden plný faktorový plánovaný experiment s 26= 64 koly, který obsahoval navíc 5 centrálních bodů, tedy celkem 69 kol jednotlivých experimentů, který měl zkoumat vliv vstupních faktorů Teplota, Tlak, Průtok, CH4, Výkon plasmatu a Žíhání v H2 na růst vertikálního grafenu na hliníkové slitině AlCu4Mg. Depozice byla prováděna užitím technologie plazmou zesílená depozice z plynné fáze (PECVD). Analyzován byl především výskyt grafenu, který byl potvrzen pomocí Ramanovy spektroskopie a také jeho tloušťka. Charakterizace byla provedena užitím elektronové a transmisní mikroskopie včetně mikroskopu atomárních sil. Bylo zjištěno, že na růst grafenu nastal v 7mi případech a jeho tloušťku ovlivňuje pouze interakce Flow (sccm)*Pretreatment H2 (sccm).cs
dc.formattextcs
dc.format.extent1-13cs
dc.format.mimetypeapplication/pdfcs
dc.language.isoencs
dc.publisherMDPIcs
dc.relation.ispartofCoatings, MDPIcs
dc.relation.urihttps://www.mdpi.com/2079-6412/11/9/1108cs
dc.rightsCreative Commons Attribution 4.0 Internationalcs
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0/cs
dc.subjectvertical grapheneen
dc.subjectPECVDen
dc.subjectaluminum alloyen
dc.subjectAlCu4Mgen
dc.subjectVertikální grafen
dc.subjectPECVD
dc.subjecthliníková slitina
dc.subjectAlCu4Mg
dc.titleVertical Graphene Growth on AlCu4Mg Alloy by PECVD Techniqueen
dc.title.alternativeRůst vertikálního grafenu na slitině AlCu4Mg užitím PECVD technikycs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav automatizace a informatikycs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav strojírenské technologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav výrobních strojů, systémů a robotikycs
sync.item.dbidVAV-172661en
sync.item.dbtypeVAVen
sync.item.insts2021.11.18 12:54:03en
sync.item.modts2021.11.18 12:15:06en
dc.coverage.issue9cs
dc.coverage.volume11cs
dc.identifier.doi10.3390/coatings11091108cs
dc.rights.accessopenAccesscs
dc.rights.sherpahttp://www.sherpa.ac.uk/romeo/issn/2079-6412/cs
dc.type.driverarticleen
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.type.versionpublishedVersionen


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Creative Commons Attribution 4.0 International
Except where otherwise noted, this item's license is described as Creative Commons Attribution 4.0 International