Electroless Deposition of Ni-P/SiO2 Composite Coating
Loading...
Date
2016-10-30
ORCID
Advisor
Referee
Mark
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Mendel University in Brno
Altmetrics
Abstract
Electroless deposit Ni–P/SiO2 composite coating was performed on the steel substrate, DIN EN 10130. The preparation of nickel coating included two main steps. In the first step, the fraction of SiO2 particles sized the tens of nanometres was obtained by sedimentation. In the second step, the composite coating was plated on the steel substrate. The actual deposition process contains the deposition of plain Ni-P interlayer which served as the nucleation center for the deposition of Ni-P/SiO2 composite coating with co-deposited SiO2 particles. The morphology of deposited composite coating was studied by scanning electron microscope (SEM). Amount of individual elements in deposited coatings was determinated by EDS analysis. The microhardness of deposited composite coating was subsequently compared with microhardness value of the plain Ni–P coating.
Chemické vklad Ni – P/SiO2 kompozitní povlak byla provedena na ocelových podložek DIN EN 10130. Příprava niklování zahrnuty dva hlavní kroky. V prvním kroku, zlomek SiO2 částic velikosti desítek nanometrů byl získán sedimentací. V druhém kroku byl pozlacený kompozitní povlak na ocelový podklad. Skutečné povlakováním obsahuje depozice obyčejný Ni-P mezivrstva, která sloužila jako nukleační centra pro depozici Ni-P/SiO2 kompozitní povlak co uložených částicemi SiO2. Morfologie uložených kompozitní povlak byl studován Řádkovací elektronový mikroskop (SEM). Množství jednotlivých prvků v uložených nátěry byl určen analýzy EDS. Mikrotvrdost uložených kompozitní povlak byl následně porovnány s hodnotou mikrotvrdost běžný povlak Ni – P.
Chemické vklad Ni – P/SiO2 kompozitní povlak byla provedena na ocelových podložek DIN EN 10130. Příprava niklování zahrnuty dva hlavní kroky. V prvním kroku, zlomek SiO2 částic velikosti desítek nanometrů byl získán sedimentací. V druhém kroku byl pozlacený kompozitní povlak na ocelový podklad. Skutečné povlakováním obsahuje depozice obyčejný Ni-P mezivrstva, která sloužila jako nukleační centra pro depozici Ni-P/SiO2 kompozitní povlak co uložených částicemi SiO2. Morfologie uložených kompozitní povlak byl studován Řádkovací elektronový mikroskop (SEM). Množství jednotlivých prvků v uložených nátěry byl určen analýzy EDS. Mikrotvrdost uložených kompozitní povlak byl následně porovnány s hodnotou mikrotvrdost běžný povlak Ni – P.
Description
Citation
Acta Universitatis Agriculturae et Silviculturae Mendelianae Brunensis. 2016, vol. 64, issue 5, p. 1459-1464.
https://acta.mendelu.cz/64/5/1459/
https://acta.mendelu.cz/64/5/1459/
Document type
Peer-reviewed
Document version
Published version
Date of access to the full text
Language of document
en
Study field
Comittee
Date of acceptance
Defence
Result of defence
Document licence
Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/