Naprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdroje
Sputtering of nitride layers using Kaufman ion-beam source for bioelectronics applications

Author
Advisor
Gablech, ImrichReferee
Chmela, OndřejGrade
AAltmetrics
Metadata
Show full item recordAbstract
Tato práce se věnuje nitridovým vrstvám, jejich aplikacím v biomedicíně a depozicí chemickými metodami depozice z plynné fáze a fyzikálními metodami depozici z plynné fáze. Zaměřuje se především na přípravu tenkých vrstev nitridu titanitého reaktivním naprašováním s využitím dvou Kaufmanových zdrojů iontů. Vrstvy byly deponovány na křemíkové wafery a podložní mikroskopická sklíčka. Nadeponované vrstvy nitridu titanitého jsou charakterizovány rentgenovou difrakční analýzou, čtyřbodovou metodou měření vrstvového odporu a měřením křivosti pro zbytkové pnutí. In this work, nitride layers, their applications in bioelectronics, and methods of chemical vapour deposition and physical vapour deposition are presented. The focus of this work is the preparation of titanium nitride thin films by reactive sputtering using Kaufman ion-beam sources. Thin films were deposited on silicon wafers and microslides. Deposited titanium nitride thin films are characterized by X-ray diffraction, four-point probe sheet resistance measurement and profilometry to determine residual stress.
Keywords
nitrid titanitý, tenké vrstvy, průhledné vodivé vrstvy, Kaufmanův iontový zdroj, reaktivní naprašování, charakterizace, optická transmise, vrstvový odpor, titanium nitride, thin films, transparent conductive films, Kaufman ion-beam source, reactive sputtering, characterization, optical transmission, sheet resistanceLanguage
čeština (Czech)Study brunch
bez specializaceComposition of Committee
doc. Ing. Lukáš Fujcik, Ph.D. (předseda) prof. Ing. Jan Leuchter, Ph.D. (místopředseda) doc. Ing. Petr Křivík, Ph.D. (člen) Ing. Imrich Gablech, Ph.D. (člen) Ing. Alexandr Otáhal, Ph.D. (člen)Date of defence
2022-06-15Process of defence
Student seznámil komisi se svou bakalářskou prací. Prezentoval dosažené výsledky a proběhla diskuze na dané téma BP. Následně student zodpověděl všechny otázky oponenta i členů komise.Result of the defence
práce byla úspěšně obhájenaPersistent identifier
http://hdl.handle.net/11012/205791Source
JARUŠEK, J. Naprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdroje [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2022.Collections
- 2022 [397]