• čeština
    • English
    • русский
    • Deutsch
    • français
    • polski
    • українська
  • čeština 
    • čeština
    • English
    • русский
    • Deutsch
    • français
    • polski
    • українська
  • Přihlásit se
Zobrazit záznam 
  •   Domovská stránka repozitáře
  • Závěrečné práce
  • bakalářské práce
  • Fakulta chemická
  • 2022
  • Zobrazit záznam
  •   Domovská stránka repozitáře
  • Závěrečné práce
  • bakalářské práce
  • Fakulta chemická
  • 2022
  • Zobrazit záznam
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Kontaminace při výrobě polovodičů

Contamination in semiconductor fabrication

Thumbnail
Zobrazit/otevřít
review_138892.html (8.408Kb)
final-thesis.pdf (3.903Mb)
Autor
Fojtášková, Helena
Vedoucí práce
Čech, Vladimír
Oponent
Salyk, Ota
Klasifikace
A
Altmetrics
Metadata
Zobrazit celý záznam
Abstrakt
Tato bakalářská práce se zabývá kontaminací ve výrobě polovodičových substrátů. Zaměřuje se na efektivitu a optimalizaci mokrých čistících procesů polovodičových desek z monokrystalického křemíku a karbidu křemíku. Součástí práce je literární rešerše z oblasti polovodičové výroby, kontaminace desek a jejich mytí. Mezi nejčastěji sledované kovové kontaminanty patří železo, měď a nikl, kvůli jejich vysoké míře difuzivity, a proto byly tyto prvky vybrány pro experimentální část. V experimentální části byly desky připraveny cílenou kontaminací pro ověření efektivity mycích lázní. Vyhodnocení kontaminace probíhalo pomocí metody rozkladu z plynné fáze v kombinaci s hmotnostní spektrometrií s indukčně vázaným plasmatem (VPD-ICP-MS) pro křemíkové desky a pomocí rentgenové fluorescence s totálním odrazem (TXRF) pro desky z karbidu křemíku. Na základě výsledků měření byla vyhodnocena efektivita mycích procesů a doporučen postup pro optimalizaci procesů.
 
This bachelor thesis deals with contamination in the production of semiconductor substrates. It focuses on the efficiency and optimization of wet cleaning processes for monocrystalline silicon and silicon carbide semiconductor wafers. The thesis includes a literature research in the field of semiconductor manufacturing, wafer contamination and wafer cleaning processes. The most commonly studied metal contaminants include iron, copper and nickel, due to their high diffusivity, and therefore these elements were chosen for the experimental part. In the experimental part, wafers were prepared by targeted contamination to verify the effectiveness of the cleaning processes. Contamination analysis was performed using the vapour phase decomposition method combined with inductively coupled plasma mass spectrometry (VPD-ICP-MS) for silicon wafers and total reflection X-ray fluorescence (TXRF) for silicon carbide wafers. Based on the measurement results, the efficiency of the washing processes was evaluated and a procedure for process optimization was recommended.
 
Klíčová slova
Křemík, karbid křemíku, kovová kontaminace, VPD-ICP-MD, TXRF, Silicon, silicon carbide, metal contamination, VPD-ICP-MS, TXRF
Jazyk
čeština (Czech)
Studijní obor
bez specializace
Složení komise
doc. Ing. František Šoukal, Ph.D. (předseda) prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (člen) prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen) prof. Ing. Petr Ptáček, Ph.D. (člen) doc. Ing. Jaromír Wasserbauer, Ph.D. (člen) doc. Ing. Lucy Vojtová, Ph.D. (člen) Ing. Lukáš Tvrdík (člen)
Termín obhajoby
2022-06-16
Průběh obhajoby
Studentka obhajovala práci na téma Kontaminace při výrobě polovodičů. Nejdříve představila cíle a motivaci své práce, a poté metody měření a způsoby kontaminace. V rámci výsledků se zaměřila především na odstranění kontaminantů z použité desky a zejména na problémy s výskytem železa. Studentka po zajímavé prezentaci přešla na otázky oponenta: "1. Jaké je vysvětlení pro totální odraz ve vaší práci? Má souvislost s Braggovým rozptylem? " "2. Jaká je koncentrace atomů Si a SiC a koncentrace cizorodých atomů kontaminace? Lze ji odvodit z vašich výsledků? " "3. Čím se dopuje SiC ? " Po zodpovězení otázek oponenta položila komise tyto otázky: 1) Jak se prakticky pracuje s kontaminovanými deskami? 2) Jedná se o desky z monokrystalů? Na veškeré otázky studentka výborně odpověděla.
Výsledek obhajoby
práce byla úspěšně obhájena
Trvalý odkaz
http://hdl.handle.net/11012/206232
Zdrojový dokument
FOJTÁŠKOVÁ, H. Kontaminace při výrobě polovodičů [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2022.
Kolekce
  • 2022 [105]
Citace PRO

Portál knihoven VUT | Ústřední knihovna na Facebooku
DSpace software copyright © 2002-2015  DuraSpace
Kontaktujte nás | Vyjádření názoru | Theme by @mire NV
 

 

Procházet

Vše v repozitářiKomunity a kolekceDle data publikováníAutořiNázvyKlíčová slovaTato kolekceDle data publikováníAutořiNázvyKlíčová slova

Můj účet

Přihlásit seZaregistrovat se

Statistiky

Zobrazit statistiky využívání

Portál knihoven VUT | Ústřední knihovna na Facebooku
DSpace software copyright © 2002-2015  DuraSpace
Kontaktujte nás | Vyjádření názoru | Theme by @mire NV