Organokřemičité plazma zkoumané hmotnostní spektrometrií
Organosilicon plasma investigated by mass spectrometry
Author
Advisor
Čech, VladimírReferee
Bránecký, MartinGrade
DAltmetrics
Metadata
Show full item recordAbstract
Tato bakalářská práce se zabývá plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) a použitím hmotnostní spektrometrie ke sledování procesů v plazmatu během depozice tenké vrstvy. Při procesu tvorby tenké vrstvy nanášené na křemíkovou podložku byl použit elektrický výboj hořící v parách tetravinylsilanu. Bylo charakterizováno pozadí spektrometru, plazmového reaktoru se zbytkovými plyny při základním vakuu a monitorován proces plazmové polymerace. Tento děj byl monitorován za zvyšujícího se efektivního výkonu (2-150 W). Získaná hmotnostní spektra byla interpretována a podrobně popsána. This bachelor thesis deals with plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and the use of mass spectrometry to monitor the processes in plasma during the deposition of thin film. Tetravinylsilane plasma was used in the process of forming a thin film on the silicon wafer. The background of the spectrometer, the residual gases in the plasma reactor at basic pressure were characterized and the plasma polymerization process was monitored. This process was monitored with increasing effective power (2-150 W). The obtained mass spectra were assigned and described in detail.
Keywords
PECVD (plazmochemická depozice z plynné fáze), hmotnostní spektrometrie, tenké vrstvy, argonové plazma, tetravinylsilan, PECVD (plasma chemical vapor deposition), mass spectrometry, thin films, argon plasma, tetravinylsilaneLanguage
čeština (Czech)Study brunch
Chemie, technologie a vlastnosti materiálůComposition of Committee
doc. Ing. František Šoukal, Ph.D. (předseda) prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (člen) prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen) prof. Ing. Petr Ptáček, Ph.D. (člen) doc. Ing. Jaromír Wasserbauer, Ph.D. (člen) doc. Ing. Lucy Vojtová, Ph.D. (člen) Ing. Lukáš Tvrdík (člen)Date of defence
2022-06-17Process of defence
Student při obhajobě práce na téme Organokřemičité plazma zkoumané hmotnostní spektrometrií nejdříve komisi seznámil s cíly své práce, technologickým zařízením PECVD a použitým hmotnostním spektrometrem. V rámci představení výsledků se zabýval závislostí parciálního tlaku na efektivním výkonu. Po shrnutí výsledků byl student komisí vyzvám k odpovědím na otázky oponenta: 1) Jaký je rozdíl mezi odporem a impedancí 50 , uvádíte totiž odpor při RF generátoru? 2) Důkladně popište části hm. spektrometru na obr. 22 a jaký tyto části mají význam? Po zodpovězení těchto otázek položila komise následující otázky: 1) Kde se v přístroji tvoří elektrony? 2) V čem je novost Vaší práce? Na dané otázky student uspokojivě odpověděl.Result of the defence
práce byla úspěšně obhájenaPersistent identifier
http://hdl.handle.net/11012/206372Source
MORAVANSKÝ, M. Organokřemičité plazma zkoumané hmotnostní spektrometrií [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2022.Collections
- 2022 [105]