Show simple item record

Mechanical and Electrical Properties of Thin Metal Films Deposited by Vacuum Evaporation

dc.contributor.advisorŠandera, Josefcs
dc.contributor.authorW. F. Yahya, Doaacs
dc.date.accessioned2019-04-03T22:59:20Z
dc.date.available2019-04-03T22:59:20Z
dc.date.created2015cs
dc.identifier.citationW. F. YAHYA, D. Mechanické a elektrické vlastnosti tenkých kovových vrstev nanášených vakuovým napařováním [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2015.cs
dc.identifier.other91937cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/51837
dc.description.abstractTenké vrstvy mají velké uplatnění v mnoha odvětvích techniky a v současné době můžeme konstatovat, že je najdeme ve všech moderních technologiích. Tenké vrstvy je možné vytvářet dvěma způsoby, a to chemickou nebo fyzikální cestou. Tato práce se zaměřuje na druhý uvedený způsob, přesněji tedy na technologii napařování tenkých vrstev ve vakuu. Práce se zaměřuje na principy procesu, jevy během napařování a po něm. V práci jsou uvedeny originální měření a technologické postupy. Experimenty objasňují některé z jevů, které se odehrávají na tenkých vrstvách vytvořených již zmíněnou technologií. Práce pomáhá lépe pochopit pochody během vytváření tenké vrstvy a vlastnosti, které ovlivňují kvalitu a stabilitu tenkých vrstev. V závěru jsou popsány výsledky experimentů a jsou zde také shrnuty nové poznatky v oblasti nanášení tenkých vrstev pomocí napařování ve vakuu.cs
dc.description.abstractThin layers are widely used in many fields of technology and today we can say that they are found in all modern technologies. Thin layers can be created in two ways, namely by chemical or physical means. This work focuses on the latter method, more particularly a technology of thermal evaporation of thin layers in a vacuum. The work focuses on the process principles during and after the evaporation. Much of the work focuses on the development and design of experiments. These experiments illustrate some of the phenomena that take place on thin films produced by the aforementioned technology. Work helps to better understand processes during formation of thin layers and properties that influence the quality and stability of thin films. In conclusion we describe results of experiments and new developments in the field of thin films deposition using evaporation under vakuum are summarized.en
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectVakuové napařovánícs
dc.subjectkovová vrstvacs
dc.subjectteplotacs
dc.subjectvýparníkcs
dc.subjectnapařovaný materiálcs
dc.subjectrecipientcs
dc.subjecttlakcs
dc.subjectteplotní stabilitacs
dc.subjectelektrická vodivostcs
dc.subjectvývěvacs
dc.subjectparyléncs
dc.subjectteplotní cyklovaní.cs
dc.subjectVacuum evaporationen
dc.subjectlayeren
dc.subjecttemperatureen
dc.subjectvaporizeren
dc.subjectevaporation materialen
dc.subjectrecipienten
dc.subjectpressureen
dc.subjecttemperature stabilityen
dc.subjectelectrical conductivityen
dc.subjectair-pumpen
dc.subjectparyleneen
dc.subjecttemperature cycling.en
dc.titleMechanické a elektrické vlastnosti tenkých kovových vrstev nanášených vakuovým napařovánímcs
dc.title.alternativeMechanical and Electrical Properties of Thin Metal Films Deposited by Vacuum Evaporationen
dc.typeTextcs
dcterms.dateAccepted2015-12-10cs
dcterms.modified2015-12-18-09:10:50cs
thesis.disciplineMikroelektronika a technologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektronikycs
thesis.levelDoktorskýcs
thesis.namePh.D.cs
sync.item.dbid91937en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2021.11.12 18:20:59en
sync.item.modts2021.11.12 17:28:26en
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
dc.contributor.refereeKolařík, Vladimírcs
dc.contributor.refereeŠtencl,, Jiřícs
dc.description.markPcs
dc.type.driverdoctoralThesisen
dc.type.evskpdizertační prácecs
but.committeeprof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda) doc. Ing Arnošt Bajer, CSc. (člen) Ing. Ondřej Frantík, Ph.D. (člen) doc. Ing. Jan Maschke, CSc. (člen) prof. Ing. Alena Pietriková, CSc. (člen) Ing. Karel Dušek, Ph.D. (člen)cs
but.defencecs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
but.programElektrotechnika a komunikační technologiecs
but.jazykčeština (Czech)


Files in this item

Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record