Sestavení a testování zařízení pro výrobu ozonované vody a její aplikace na čištění křemíkových desek
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract
Deionizovaná ozonovaná voda neboli tzv. DIO3 se zdá být vhodnou alternativou pro použití v polovodičovém průmyslu. Užití DIO3 při odstraňování fotorezistu z křemíkových desek je rychlejší, levnější a šetrnější k životnímu prostředí oproti klasické technologii založené na použití směsi kyseliny sírové a peroxidu vodíku neboli SPM. Diplomová práce se zabývá prvně rešerší na téma ozon a ozonované vody a jejich možné aplikace. V dalších částech jsou popsány dva prototypy generátorů DIO3, jež byly sestaveny ve společnosti CSVG a.s. Testování parametrů generátorů na koncentraci rozpuštěného ozonu je taktéž součástí této práce. Dále jsou v práci uvedeny i testy, které byly provedeny ve společnosti ON Semiconductor v Rožnově pod Radhoštěm. V testech je porovnávána účinnost čištění pomocí klasické technologie využívající SPM a pomocí DIO3.
Deionised-ozonated water, so-called DIO3 appears to be an ideal alternative for usage in semiconductor industry. The utilisation of DIO3 for removal of photoresist from silicon wafers is faster, cheaper, and more environmental-friendly compared to classical technology based on mixture of sulphuric acid with hydrogen peroxide, so-called SPM. The diploma thesis deals firstly with research into ozone and ozonated water and their possible applications. Next sections describe two prototypes of generators for DIO3, that were assembled in CSVG a.s. Testing of parameters for generators on dissolved-ozone concentration is also a part of this thesis. Moreover, thesis involves tests, that were carrier out in ON Semiconductor in Rožnov pod Radhoštěm. These tests compare efficiency of cleaning by classical technology based on SPM and DIO3 approach.
Deionised-ozonated water, so-called DIO3 appears to be an ideal alternative for usage in semiconductor industry. The utilisation of DIO3 for removal of photoresist from silicon wafers is faster, cheaper, and more environmental-friendly compared to classical technology based on mixture of sulphuric acid with hydrogen peroxide, so-called SPM. The diploma thesis deals firstly with research into ozone and ozonated water and their possible applications. Next sections describe two prototypes of generators for DIO3, that were assembled in CSVG a.s. Testing of parameters for generators on dissolved-ozone concentration is also a part of this thesis. Moreover, thesis involves tests, that were carrier out in ON Semiconductor in Rožnov pod Radhoštěm. These tests compare efficiency of cleaning by classical technology based on SPM and DIO3 approach.
Description
Keywords
ozon, ozonovaná voda, DIO3, polovodičový průmysl, kontaktor, membránový kontaktor, destruktor, SPM, generátor DIO3, CSVG a.s., čištění Si desek, TXRF, ozone, ozonated water, DIO3, semiconductor industry, contactor, membrane contactor, destructor, SPM, generator of DIO3, CSVG a.s., cleaning of silicon wafers, TXRF
Citation
ŘEDINA, D. Sestavení a testování zařízení pro výrobu ozonované vody a její aplikace na čištění křemíkových desek [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2017.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Fyzikální inženýrství a nanotechnologie
Comittee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda)
prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda)
prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen)
prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen)
prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen)
prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Eduard Schmidt, CSc. (člen)
prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen)
RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Date of acceptance
2017-06-20
Defence
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení