Depozice a charakterizace tenkých vrstev a jejich analýza za pomoci skenovací elektronové mikroskopie

Abstract

Tato práce se zabývá metodami nanášení tenkých vrstev, a to zejména metodou PVD a CVD. Součástí práce byla i experimentální část, kde byly nedeponovány dva vzorky metodou magnetronového naprašování a nanášením z plynné fáze. Cílem práce bylo porovnat jejich materiálové vlastnosti se vzorky průmyslově vyrobenými, měřena byla jejich tvrdost, adheze, drsnost a tloušťka. Teoretická část se zabývá chemickou a fyzikální podstatou různých metod depozice tenkých vrstev a popisem materiálových vlastností, které jsou u tenkých povlaků podstatné. Praktická část zahrnuje popis depozičních procesů a použitých charakterizačních technik.

My thesis is concerned with the application of thin films methods and it focuses on the method of PVD and CVD. Another part of my work is experimental, where two samples were preapared by magnetron sputtering and by method of gas phase deposition. The aim of the work was to compare their material properties with commercially produced samples. Severel parts were measured - nanohardness, adhesion, roughness and thickness. Theoretical part focuses on chemical and physical essence of the different methods of the deposition of thin films and on the description of material properties, that are essential for thin films. The practical part includes the description of depositional processes and of the characteristic techniques used in the practical part.