Show simple item record

Thermal stability of sputtered yttrium oxide layers

dc.contributor.advisorHégr, Ondřejcs
dc.contributor.authorKršňák, Jiřícs
dc.date.accessioned2019-04-03T22:49:01Z
dc.date.available2019-04-03T22:49:01Z
dc.date.created2009cs
dc.identifier.citationKRŠŇÁK, J. Teplotní stabilita naprašovaných vrstev oxidu yttria [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2009.cs
dc.identifier.other22424cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/901
dc.description.abstractTato práce se zabývá chováním naprášené tenké vrstvy oxidu yttria po teplotním namáhání. V rámci řešení byly deponovány tenké vrstvy oxidu yttria na křemíkové substráty, které byly vystavovány různým cyklům teplotního namáhání. Testované struktury byly zkoumány před a po teplotním namáhání z hlediska stability povrchové topografie za pomoci elektronové mikroskopie.cs
dc.description.abstractThis work deals with behavior of deposited yttrium oxide thin film after heat stress. Within solution thin yttrium oxide films were deposited at silicon substrates, which were exposed to various cycles of heat stress. Tested structures were investigated before and after heat stress in term of surface topography stability with the hepl of electron microscopy.en
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectmagnetronové naprašovánícs
dc.subjectvysokofrekvenční naprašovánícs
dc.subjectoxid yttriacs
dc.subjectrastrovací elektronový mikroskopcs
dc.subjectmagnetron sputteringen
dc.subjectradiofrequency sputteringen
dc.subjectyttrium oxideen
dc.subjectscanning electron microscopyen
dc.titleTeplotní stabilita naprašovaných vrstev oxidu yttriacs
dc.title.alternativeThermal stability of sputtered yttrium oxide layersen
dc.typeTextcs
dcterms.dateAccepted2009-06-11cs
dcterms.modified2009-07-07-11:45:17cs
thesis.disciplineMikroelektronika a technologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektronikycs
thesis.levelBakalářskýcs
thesis.nameBc.cs
sync.item.dbid22424en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2020.03.31 04:04:59en
sync.item.modts2020.03.31 01:59:23en
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
dc.contributor.refereeBoušek, Jaroslavcs
dc.description.markDcs
dc.type.driverbachelorThesisen
dc.type.evskpbakalářská prácecs
but.committeeprof. Ing. Jaromír Brzobohatý, CSc. (předseda) doc. Ing. Ladislav Hulenyi, CSc. (místopředseda) doc. Ing. Jaroslav Kadlec, Ph.D. (člen) doc. Ing. Pavel Legát, CSc. (člen) Ing. Zdenka Rozsívalová (člen)cs
but.defenceStudent Jiří Krsňák seznámil komisi se svoji bakalařskou prací na téma: Teplotní stabilita naprašovaných vrstev oxidu yttria. Student odpověděl na otázky oponenta - 1) Všechny depozice popsané v práci byly prováděny při tlaku přibližně 1,1 Pa. Proč byl zvolen tento tlak? Jaké změny depozičního procesu lze očekávat při použití menšího depozičního tlaku? 2) Jaké frekvence se používají pro vysokofrekvenční naprašování a proč? Proběhla rozprava k tématu bakalárské práce.cs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
but.programElektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technikacs
but.jazykčeština (Czech)


Files in this item

Thumbnail
Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record