Show simple item record

Plazmochemická konzervace korodovaných kovových předmětů

dc.contributor.authorSázavská, Věracs
dc.contributor.authorVeverková, Radkacs
dc.contributor.authorKrčma, Františekcs
dc.contributor.authorŘádková, Luciecs
dc.contributor.authorMiková, Petracs
dc.contributor.authorPřikryl, Radekcs
dc.contributor.authorProcházka, Michalcs
dc.date.accessioned2019-06-14T08:59:40Z
dc.date.available2019-06-14T08:59:40Z
dc.date.issued2016-05-17cs
dc.identifier.citationJournal of Physics: Conference Series. 2016, vol. 715, issue 1, p. 012012-1-012012-6.en
dc.identifier.issn1742-6588cs
dc.identifier.other93266cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/137090
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/173195
dc.description.abstractPlasmachemical process for conservation of metallic objects is a new way of effective and fast treatment of corroded objects. This process consists of two main steps: corrosion removal and deposition of a protecting film. Removal of corrosion products is based on plasmachemical reduction of corrosion layers by radio-frequency (RF) low pressure hydrogen plasma. Chosen barrier films are parylene (poly-para-xylylene) coatings and SiO2- like high density films. Parylene coatings are prepared by a standard chemical vapor deposition (CVD) method. Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) enables preparation of SiOx based thin films with higher flexibility due to variable incorporated organics groups. The coatings were characterized by various methods in order to obtain information about their chemical structure (FTIR) and barrier properties (OTR). The results from standard corrosion test were compared with those on samples treated by conventional conservation procedures.en
dc.description.abstractPlazmochemická konzervace kovových předmětů představuje nový efektivní směr rychlého ošetření korodovaných předmětů. Proces je složen ze dvou základních kroků: Odstranění koroze a depozice ochranných vrstev. Odstraňování koroze je založena na aplikaci RF nízkotlakého vodíkového plazmatu. Jako ochranné bariérové vrstvy byly zvoleny vrstvy vysokohustotního SiOx a parylenu. Parylenové vrstvy byly připraveny standardním CVD procesem. Vrstvy SiOx byly připraveny pomocí PECVD procesu, který umožňuje vysokou flexibilitu díky možnosti ovlivňovat podíl uhlíku ve vrstvách. Povlaky byly charakterizovány různými metodami s cílem zjistit jejich chemickou strukturu (FTIR) a bariérové vlastnosti (OTR). Standardního korozní testy byly provedeny na vzorcích ošetřených běžnými konzervátorskými technikami i parylenovými a SiOx vrstvami.cs
dc.formattextcs
dc.format.extent012012-1-012012-6cs
dc.format.mimetypeapplication/pdfcs
dc.language.isoencs
dc.publisherIOP Publishingcs
dc.relation.ispartofJournal of Physics: Conference Seriescs
dc.relation.urihttp://iopscience.iop.org/article/10.1088/1742-6596/715/1/012012cs
dc.rightsCreative Commons Attribution 3.0 Unportedcs
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by/3.0/cs
dc.subjectPlasma corrosion removalen
dc.subjectplasma depositionen
dc.subjectPECVDen
dc.subjectCVDen
dc.subjectbariere filmsen
dc.subjectPlazmatické odstraňování koroze
dc.subjectplazmatická depozice
dc.subjectPECVD
dc.subjectCVD
dc.subjectbariérové vrstvy
dc.titlePlasmachemical Conservation of Corroded Metallic Objectsen
dc.title.alternativePlazmochemická konzervace korodovaných kovových předmětůcs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. Ústav fyzikální a spotřební chemiecs
sync.item.dbidVAV-93266en
sync.item.dbtypeVAVen
sync.item.insts2019.06.14 10:59:40en
sync.item.modts2019.05.18 00:46:00en
dc.coverage.issue1cs
dc.coverage.volume715cs
dc.identifier.doi10.1088/1742-6596/715/1/012012cs
dc.rights.accessopenAccesscs
dc.rights.sherpahttp://www.sherpa.ac.uk/romeo/issn/1742-6588/cs
dc.type.driverarticleen
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.type.versionpublishedVersionen


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Creative Commons Attribution 3.0 Unported
Except where otherwise noted, this item's license is described as Creative Commons Attribution 3.0 Unported