Show simple item record

Preparation of Ag/Co/Ag Trilayers

dc.contributor.advisorČechal, Jancs
dc.contributor.authorBurda, Pavelcs
dc.date.accessioned2019-05-17T12:15:03Z
dc.date.available2019-05-17T12:15:03Z
dc.date.created2010cs
dc.identifier.citationBURDA, P. Příprava trojvrstev Ag/Co/Ag [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2010.cs
dc.identifier.other29511cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/14113
dc.description.abstractBakalářská práce je věnována přípravě a studiu ultratenkých vrstev stříbra a kobaltu. Z těchto materiálů jsou tvořeny vrstvy na křemíkových substrátech. Substráty tvoří povrchově upravený krystalický křemík (SiO2/Si(111), Si(111) ?H, Si(111) 7×7) a amorfní SiO2 ve formě křemenného skla. Růst vrstev je prováděn pomocí epitaxe molekulárním svazkem (MBE) za využití efuzní cely. Na vzorek připravený z uvedených substrátů je postupně deponována vrstva stříbra, poté kobaltu a stříbra. Tloušťka každé vrstvy je 6 nm. Vrstvy jsou studovány užitím metod rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS) a mikroskopie atomárních sil (AFM). Typ růstu vrstvy se zásadně liší u různých povrchových úprav substrátu. Výsledkem jsou připravené trojvrstvy Ag/Co/Ag na SiO2/Si(111) a Si(111) 7×7, které lze využít v oblasti plazmoniky a lze magnetickým polem ovlivnit chování povrchových plazmonových polaritonů.cs
dc.description.abstractThe Bachelor's thesis is aimed to the preparation of silver and cobalt ultrathin films. The films are formed on modified surfaces of crystalline silicon substrates (SiO2/Si(111), Si(111) ?H, Si(111) 7×7) and amorphous SiO2 in a form of a quartz glass. Thin films are grown using an effusion cell for Molecular Beam Epitaxy (MBE). Surface modified surfaces are covered subsequently by a silver, cobalt and silver thin layer. The individual film thickness is 6 nm. Consequently the samples are studied by the X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and the Atomic Force Microscopy (AFM). The morphology of thin films and growth modes are compared among the substrates. Growth modes change with the surface modification type. Complete trilayer system Ag/Co/Ag was prepared on SiO2/Si(111) and Si(111) 7×7. Such system can be employed in plasmonics in order to allow the control of surface plasmon polariton properties by an external magnetic field.en
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectstříbrocs
dc.subjectkobaltcs
dc.subjectkřemíkcs
dc.subjectrůst tenkých vrstevcs
dc.subjecttrojvrstvacs
dc.subjectAgcs
dc.subjectSics
dc.subjectSiO2cs
dc.subjectMBEcs
dc.subjectAFMcs
dc.subjectXPScs
dc.subjectsilveren
dc.subjectcobalten
dc.subjectsiliconen
dc.subjectthin film growthen
dc.subjecttrilayeren
dc.subjectAgen
dc.subjectSien
dc.subjectSiO2en
dc.subjectMBEen
dc.subjectAFMen
dc.subjectXPSen
dc.titlePříprava trojvrstev Ag/Co/Agcs
dc.title.alternativePreparation of Ag/Co/Ag Trilayersen
dc.typeTextcs
dcterms.dateAccepted2010-06-17cs
dcterms.modified2010-07-13-11:45:04cs
thesis.disciplineFyzikální inženýrství a nanotechnologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelBakalářskýcs
thesis.nameBc.cs
sync.item.dbid29511en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2019.06.21 05:31:40en
sync.item.modts2019.05.19 00:36:39en
dc.contributor.refereeKolíbal, Miroslavcs
dc.description.markAcs
dc.type.driverbachelorThesisen
dc.type.evskpbakalářská prácecs


Files in this item

Thumbnail
Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record