Show simple item record

Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures

dc.contributor.advisorČech, Vladimíren
dc.contributor.authorSadílek, Jakuben
dc.date.accessioned2019-04-03T22:04:03Z
dc.date.available2019-04-03T22:04:03Z
dc.date.created2013cs
dc.identifier.citationSADÍLEK, J. Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2 [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2013.cs
dc.identifier.other58425cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/23373
dc.description.abstractTato studie je zaměřena na základní výzkum přípravy a-SiC:H a a-SiCO:H slitin plazmových polymerů pomocí metody plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD). Tyto slitiny byly připravovány depozicí z monomeru tetravinylsilanu (TVS) a jeho směsí s kyslíkem a argonem při různých efektivních výkonech pulzního plazmatu. Připravené tenké vrstvy byly za účelem získání závislostí optických, mechanických a chemických vlastností na depozičních podmínkách zkoumány pomocí metod spektros-kopické elipsometrie (ELL), nanoindentace (NI), fotoelektronové spektrometrie (XPS) a Fourierovy transformované infračervené spektrometrieen
dc.description.abstractThis study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.cs
dc.language.isoencs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemickács
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjecta-SiC:Hen
dc.subjecta-SiCO:Hen
dc.subjectTetravinylsilane (TVS)en
dc.subjectplazmochemická depozice z plyné fáze (PECVD)en
dc.subjecttenké vrstvyen
dc.subjectelipsometrieen
dc.subjectFourierovsky transformovaná infračervená spek-trometrie (FTIR)en
dc.subjecta-SiC:Hcs
dc.subjecta-SiCO:Hcs
dc.subjectTetravinylsilane (TVS)cs
dc.subjectPlasma enhanced chemical vapor deposi-tion (PECVD)cs
dc.subjectthin filmcs
dc.subjectellipsometrycs
dc.subjectFourier transformed infrared spectrometry (FTIR)cs
dc.titlePlazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2en
dc.title.alternativePlasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixturescs
dc.typeTextcs
dcterms.dateAccepted2013-06-04cs
dcterms.modified2013-06-04-11:40:41cs
thesis.disciplineChemie, technologie a vlastnosti materiálůcs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. Ústav chemie materiálůcs
thesis.levelInženýrskýcs
thesis.nameIng.cs
sync.item.dbid58425en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2020.03.31 22:38:14en
sync.item.modts2020.03.31 18:43:55en
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta chemickács
dc.contributor.refereeSalyk, Otaen
dc.description.markAcs
dc.type.drivermasterThesisen
dc.type.evskpdiplomová prácecs
but.committeeprof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (předseda) prof. Ing. Jaromír Havlica, DrSc. (místopředseda) prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen) doc. RNDr. Jaroslav Petrůj, CSc. (člen) prof. Ing. Tomáš Svěrák, CSc. (člen) prof. Dr. Ing. Martin Palou (člen) prof. Ing. Petr Ptáček, Ph.D. (člen)cs
but.defenceDiplomant prezentoval velmi zajímavě výsledky své diplomové práce. Prezentace byla jasná a na velmi dobré obsahové i formální úrovni. Dotazy oponenta zodpověděl diplomant správně a prokázal hlubokou znalost zkoumané problematiky. Na dotazy členů komise reagoval správně a pohotově.cs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
but.programChemie, technologie a vlastnosti materiálůcs
but.jazykangličtina (English)


Files in this item

Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record