Návrh aparatury pro VF plasmové leptání
Design of aparature for RF plasma etching
Author
Advisor
Mach, JindřichReferee
Bábor, PetrGrade
AAlternative metrics PlumX
http://hdl.handle.net/11012/33300Altmetrics
http://hdl.handle.net/11012/33300
http://hdl.handle.net/11012/33300
Metadata
Show full item recordAbstract
Táto bakalárska práca sa zaoberá návrhom aparatúry na vysokofrekvenčnú (VF) indukčne viazanú plazmu. V teoretickej časti je rešerne spracované čistenie grafénových povrchov plazmovým leptaním, ďalej sú popísané metódy generovania plazmového výboja a návrh VF elektrického obvodu. Praktická časť sa zaoberá samotnou konštrukciou aparatúry a vyrovnávacej jednotky, optickou diagnostikou plazmového výboja a meraním parametrov leptania PMMA (rýchlosť leptania, drsnosť) použitím spektroskopickej reflektometrie a mikroskopie atomárnych síl. This bachelor's thesis deals with a design of an ICP (Inductively Coupled Plasma) apparatus. The theoretical part consists of a research of a plasmatic graphene surface cleaning. Next are described plasma generation methods and an RF circuit design. The experimental part deals with a construction of the ICP apparatus and the impedance matching box, an optical diagnostics of a plasma discharge and a measurement of PMMA etching parameters (etch rate, roughness) by a spectroscopic reflectometry and an atomic force microscopy.
Keywords
indukčne budená plazma, čistenie grafénu, leptanie PMMA, suché leptanie, vyrovnávanie impedancií, inductively coupled plasma, graphene cleaning, PMMA etching, dry etching, impedance matchingLanguage
čeština (Czech)Study brunch
Fyzikální inženýrství a nanotechnologieComposition of Committee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)Date of defence
2014-06-25Process of defence
Result of the defence
práce byla úspěšně obhájenaPersistent identifier
http://hdl.handle.net/11012/33300Source
BÁRDY, S. Návrh aparatury pro VF plasmové leptání [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2014.Collections
- 2014 [562]