Show simple item record

Design of aparature for RF plasma etching

dc.contributor.advisorMach, Jindřichcs
dc.contributor.authorBárdy, Stanislavcs
dc.date.accessioned2019-11-27T20:13:16Z
dc.date.available2019-11-27T20:13:16Z
dc.date.created2014cs
dc.identifier.citationBÁRDY, S. Návrh aparatury pro VF plasmové leptání [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2014.cs
dc.identifier.other70883cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/33300
dc.description.abstractTáto bakalárska práca sa zaoberá návrhom aparatúry na vysokofrekvenčnú (VF) indukčne viazanú plazmu. V teoretickej časti je rešerne spracované čistenie grafénových povrchov plazmovým leptaním, ďalej sú popísané metódy generovania plazmového výboja a návrh VF elektrického obvodu. Praktická časť sa zaoberá samotnou konštrukciou aparatúry a vyrovnávacej jednotky, optickou diagnostikou plazmového výboja a meraním parametrov leptania PMMA (rýchlosť leptania, drsnosť) použitím spektroskopickej reflektometrie a mikroskopie atomárnych síl.cs
dc.description.abstractThis bachelor's thesis deals with a design of an ICP (Inductively Coupled Plasma) apparatus. The theoretical part consists of a research of a plasmatic graphene surface cleaning. Next are described plasma generation methods and an RF circuit design. The experimental part deals with a construction of the ICP apparatus and the impedance matching box, an optical diagnostics of a plasma discharge and a measurement of PMMA etching parameters (etch rate, roughness) by a spectroscopic reflectometry and an atomic force microscopy.en
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectindukčne budená plazmacs
dc.subjectčistenie grafénucs
dc.subjectleptanie PMMAcs
dc.subjectsuché leptaniecs
dc.subjectvyrovnávanie impedanciícs
dc.subjectinductively coupled plasmaen
dc.subjectgraphene cleaningen
dc.subjectPMMA etchingen
dc.subjectdry etchingen
dc.subjectimpedance matchingen
dc.titleNávrh aparatury pro VF plasmové leptánícs
dc.title.alternativeDesign of aparature for RF plasma etchingen
dc.typeTextcs
dcterms.dateAccepted2014-06-25cs
dcterms.modified2014-06-26-14:01:14cs
thesis.disciplineFyzikální inženýrství a nanotechnologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelBakalářskýcs
thesis.nameBc.cs
sync.item.dbid70883en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2020.05.22 13:58:51en
sync.item.modts2020.05.22 13:00:42en
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta strojního inženýrstvícs
dc.contributor.refereeBábor, Petrcs
dc.description.markAcs
dc.type.driverbachelorThesisen
dc.type.evskpbakalářská prácecs
but.committeeprof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)cs
but.defencecs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
but.programAplikované vědy v inženýrstvícs
but.jazykčeština (Czech)


Files in this item

Thumbnail
Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record