• čeština
    • English
  • čeština 
    • čeština
    • English
  • Login
View Item 
  •   Repository Home
  • Závěrečné práce
  • bakalářské práce
  • Fakulta strojního inženýrství
  • 2011
  • View Item
  •   Repository Home
  • Závěrečné práce
  • bakalářské práce
  • Fakulta strojního inženýrství
  • 2011
  • View Item
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Výroba membrán pomocí anizotropního leptání křemíku

Fabrication of SiO2 by anisotropic etching of silicon

Thumbnail
View/Open
final-thesis.pdf (9.473Mb)
review_37136.html (8.966Kb)
Author
Balajka, Jan
Advisor
Urbánek, Michal
Referee
Kolíbal, Miroslav
Grade
A
Alternative metrics PlumX
http://hdl.handle.net/11012/3525
Altmetrics
http://hdl.handle.net/11012/3525
http://hdl.handle.net/11012/3525
Metadata
Show full item record
Abstract
Bakalářská práce se zabývá přípravou membrán z oxidu křemičitého (SiO2) na křemíkovém (Si) substrátu pomocí anizotropního leptání křemíku. Masky pro anizotropní leptání křemíku byly vytvořeny pomocí elektronové litografie a chemického leptání SiO2. V práci jsou popsány jednotlivé kroky postupu přípravy membrán včetně použitých experimentálních podmínek. Za účelem optimalizace pracovního postupu bylo provedeno několik měření rychlosti leptání Si/SiO2 v různých roztocích. Výsledky těchto měření jsou zde rovněž uvedeny. Připravené membrány byly charakterizovány pomocí optické mikroskopie, rastrovací elektronové mikroskopie a spektroskopické reflektometrie. Součástí práce je i popis metod použitých pro přípravu a analýzu definovaných struktur připravených pomocí anizotropního leptání křemíku.
 
The aim of the bachelor's thesis is the fabrication of silicon dioxide (SiO2) membranes on silicon (Si) substrate by anisotropic etching of silicon. Masks for anisotropic silicon etching were prepared by electron beam litography and SiO2 wet etching. Individual steps of membrane fabrication are described, including used experimental conditions. In order to optimize the fabrication process, etch rates of Si/SiO2 in several solutions were measured. Results of the measurements are included in the thesis. Fabricated membranes were characterised by optical microscopy, scanning electron microscopy and spectroscopic reflectometry. Methods used for fabrication and analysis of defined structures created by anisotropic silicon etching are briefly summarized.
 
Keywords
KŘEMÍK, ANIZOTROPNÍ LEPTÁNÍ KŘEMÍKU, MEMBRÁNA, ELEKTRONOVÁ LITOGRAFIE, SILICON, ANISOTROPIC SILICON ETCHING, MEMBRANE, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
Language
čeština (Czech)
Study brunch
Fyzikální inženýrství a nanotechnologie
Composition of Committee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) doc. RNDr. Josef Kuběna, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Date of defence
2011-06-21
Process of defence
Result of the defence
práce byla úspěšně obhájena
Persistent identifier
http://hdl.handle.net/11012/3525
Source
BALAJKA, J. Výroba membrán pomocí anizotropního leptání křemíku [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2011.
Collections
  • 2011 [575]
Citace PRO

Portal of libraries | Central library on Facebook
DSpace software copyright © 2002-2015  DuraSpace
Contact Us | Send Feedback | Theme by @mire NV
 

 

Browse

All of repositoryCommunities & CollectionsBy Issue DateAuthorsTitlesSubjectsThis CollectionBy Issue DateAuthorsTitlesSubjects

My Account

LoginRegister

Statistics

View Usage Statistics

Portal of libraries | Central library on Facebook
DSpace software copyright © 2002-2015  DuraSpace
Contact Us | Send Feedback | Theme by @mire NV