Výroba membrán pomocí anizotropního leptání křemíku
Fabrication of SiO2 by anisotropic etching of silicon
Author
Advisor
Urbánek, MichalReferee
Kolíbal, MiroslavGrade
AAlternative metrics PlumX
http://hdl.handle.net/11012/3525Altmetrics
http://hdl.handle.net/11012/3525
http://hdl.handle.net/11012/3525
Metadata
Show full item recordAbstract
Bakalářská práce se zabývá přípravou membrán z oxidu křemičitého (SiO2) na křemíkovém (Si) substrátu pomocí anizotropního leptání křemíku. Masky pro anizotropní leptání křemíku byly vytvořeny pomocí elektronové litografie a chemického leptání SiO2. V práci jsou popsány jednotlivé kroky postupu přípravy membrán včetně použitých experimentálních podmínek. Za účelem optimalizace pracovního postupu bylo provedeno několik měření rychlosti leptání Si/SiO2 v různých roztocích. Výsledky těchto měření jsou zde rovněž uvedeny. Připravené membrány byly charakterizovány pomocí optické mikroskopie, rastrovací elektronové mikroskopie a spektroskopické reflektometrie. Součástí práce je i popis metod použitých pro přípravu a analýzu definovaných struktur připravených pomocí anizotropního leptání křemíku. The aim of the bachelor's thesis is the fabrication of silicon dioxide (SiO2) membranes on silicon (Si) substrate by anisotropic etching of silicon. Masks for anisotropic silicon etching were prepared by electron beam litography and SiO2 wet etching. Individual steps of membrane fabrication are described, including used experimental conditions. In order to optimize the fabrication process, etch rates of Si/SiO2 in several solutions were measured. Results of the measurements are included in the thesis. Fabricated membranes were characterised by optical microscopy, scanning electron microscopy and spectroscopic reflectometry. Methods used for fabrication and analysis of defined structures created by anisotropic silicon etching are briefly summarized.
Keywords
KŘEMÍK, ANIZOTROPNÍ LEPTÁNÍ KŘEMÍKU, MEMBRÁNA, ELEKTRONOVÁ LITOGRAFIE, SILICON, ANISOTROPIC SILICON ETCHING, MEMBRANE, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHYLanguage
čeština (Czech)Study brunch
Fyzikální inženýrství a nanotechnologieComposition of Committee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) doc. RNDr. Josef Kuběna, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)Date of defence
2011-06-21Process of defence
Result of the defence
práce byla úspěšně obhájenaPersistent identifier
http://hdl.handle.net/11012/3525Source
BALAJKA, J. Výroba membrán pomocí anizotropního leptání křemíku [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2011.Collections
- 2011 [575]