Plasmochemické úpravy oxidických polovodičových fotoanod
Plasmochemical treatment of photoanodes with semiconducting oxide layer
Abstract
Diplomová práca sa zaoberá plazmochemickou úpravou fotoanód, ktoré sú tvorené aktívnou vrstvou, obsahujúcou TiO2, deponovanou na dvoch rôznych substrátoch pomocou techniky materiálovej tlače. Pre proces plazmochemickej úpravy bola použitá nízkoteplotná atmosférická plazma, využívajúca difúzny koplanárny povrchový bariérový výboj (DCSBD). Experimentálna časť je zameraná na skúmanie vplyvu DCSBD na zhotovené fotoanódy, ktoré obsahujú rôzny počet aktívnych vrstiev, v závislosti na dĺžke pôsobenia plazmochemickej úpravy. Zároveň bola vykonaná optimalizácia procesu, nastavovaním výšky elektródy, na ktorej sa generuje DCSBD. Pre elektrochemickú charakterizáciu vrstiev bola použitá lineárna voltampérometria a chronoampérometria. This diploma thesis deals with a plasmochemical treatment of photoanodes with an active layer containing TiO2 deposited on two different substrates by material printing. The plasmochemical treatment was performed by a low-temperature ambient-air plasma using a diffuse coplanar surface barrier discharge (DCSBD). The experimental part is focused on the investigation of DCSBD influence on the fabricated photoanodes photoelectrochemical properties, and the influence of plasma treatment time. Process optimization was achieved by height adjustment of the electrode. The processed coatings were electrochemically investigated by linear sweep voltammetry and chronoamperometry.
Keywords
oxid titaničitý, TiO2 fotoanódy, mezoporézne vrstvy, plazmové ošetrenie, atmosférická plazma, titanium dioxide, TiO2 photoanodes, mesoporous coatings, plasma treatment, ambient-air plasmaLanguage
čeština (Czech)Study brunch
Spotřební chemieComposition of Committee
prof. Ing. Miloslav Pekař, CSc. (předseda) prof. Ing. Michal Veselý, CSc. (místopředseda) doc. Ing. Karel Friess, Ph.D. (člen) doc. Ing. Zdenka Kozáková, Ph.D. (člen) doc. Ing. Irena Kratochvílová, Ph.D. (člen) doc. Ing. Marián Lehocký, Ph.D. (člen)Date of defence
2018-05-31Process of defence
Kozáková: Jaký je princip odstranění organických skupin z připravených vrstev? Jak vypadalo zařízení pro generaci plazmatu? Pekař: Jak ovlivnilo použití různého typu TiO2 výsledné hodnoty fotoproudu? Veselý: Z jaké strany byla vedena expozice vrstev UV záření a fungovala by indukce fotoproudu i z druhé strany? Jaký byl vložený potenciál při měření fotoproudu? Friess: Jakým způsobem bylo zajištěno přesné nastavení vzdálenosti elektrody od povrchu upravovaných vrstev?Result of the defence
práce byla úspěšně obhájenaPersistent identifier
http://hdl.handle.net/11012/80623Source
ĎURAŠOVÁ, Z. Plasmochemické úpravy oxidických polovodičových fotoanod [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2018.Collections
- 2018 [135]