Naprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdroje
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Tato práce se věnuje nitridovým vrstvám, jejich aplikacím v biomedicíně a depozicí chemickými metodami depozice z plynné fáze a fyzikálními metodami depozici z plynné fáze. Zaměřuje se především na přípravu tenkých vrstev nitridu titanitého reaktivním naprašováním s využitím dvou Kaufmanových zdrojů iontů. Vrstvy byly deponovány na křemíkové wafery a podložní mikroskopická sklíčka. Nadeponované vrstvy nitridu titanitého jsou charakterizovány rentgenovou difrakční analýzou, čtyřbodovou metodou měření vrstvového odporu a měřením křivosti pro zbytkové pnutí.
In this work, nitride layers, their applications in bioelectronics, and methods of chemical vapour deposition and physical vapour deposition are presented. The focus of this work is the preparation of titanium nitride thin films by reactive sputtering using Kaufman ion-beam sources. Thin films were deposited on silicon wafers and microslides. Deposited titanium nitride thin films are characterized by X-ray diffraction, four-point probe sheet resistance measurement and profilometry to determine residual stress.
In this work, nitride layers, their applications in bioelectronics, and methods of chemical vapour deposition and physical vapour deposition are presented. The focus of this work is the preparation of titanium nitride thin films by reactive sputtering using Kaufman ion-beam sources. Thin films were deposited on silicon wafers and microslides. Deposited titanium nitride thin films are characterized by X-ray diffraction, four-point probe sheet resistance measurement and profilometry to determine residual stress.
Description
Keywords
nitrid titanitý, tenké vrstvy, průhledné vodivé vrstvy, Kaufmanův iontový zdroj, reaktivní naprašování, charakterizace, optická transmise, vrstvový odpor, titanium nitride, thin films, transparent conductive films, Kaufman ion-beam source, reactive sputtering, characterization, optical transmission, sheet resistance
Citation
JARUŠEK, J. Naprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdroje [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2022.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
bez specializace
Comittee
doc. Ing. Lukáš Fujcik, Ph.D. (předseda)
prof. Ing. Jan Leuchter, Ph.D. (místopředseda)
doc. Ing. Petr Křivík, Ph.D. (člen)
Ing. Imrich Gablech, Ph.D. (člen)
Ing. Alexandr Otáhal, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2022-06-15
Defence
Student seznámil komisi se svou bakalářskou prací. Prezentoval dosažené výsledky a proběhla diskuze na dané téma BP. Následně student zodpověděl všechny otázky oponenta i členů komise.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení