but.committee	prof. Ing. Jiří Švejcar, CSc. (předseda) doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D. (člen) Ing. Jaroslav Jiruše, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen)	cs
but.defence	DDP se zabývá procesy přípravy mikro-a nanostruktur elektronovými a iontovými svazky a vlastnostmi mokrého leptání monokrystalického křemíku. Výslednými strukturami byla řada objektů: proužky, mřížky, šachovnicová pole, mezikruží, pole pyramid.	cs
but.jazyk	čeština (Czech)
but.program	Fyzikální a materiálové inženýrství	cs
but.result	práce byla úspěšně obhájena	cs
dc.contributor.advisor	Šikola, Tomáš	cs
dc.contributor.author	Šamořil, Tomáš	cs
dc.contributor.referee	Mikulík, Petr	cs
dc.contributor.referee	Jiruše, Jaroslav	cs
dc.date.accessioned	2018-10-21T18:00:22Z
dc.date.available	2018-10-21T18:00:22Z
dc.date.created	2016	cs
dc.description.abstract	Systémy pracující současně s fokusovanými elektronovými a iontovými svazky jsou v dnešní době velmi důležitými nástroji v oblasti mikro- a nanotechnologií. Kromě zobrazování a analýzy vzorků je lze rovněž využít k litografii, jejíž aplikací jsou připravovány struktury požadovaného tvaru a rozměrů v mikrometrovém až nanometrovém měřítku. Práce nejprve pojednává o jedné z litografických metod – depozici indukované fokusovaným elektronovým nebo iontovým svazkem, u níž je hledáno optimální nastavení podmínek expozice a studována kvalita deponovaných kovových struktur z hlediska tvaru a prvkového složení. Následně je věnována pozornost i dalším typům litografických metod (elektronová, iontová), které jsou aplikovány k přípravě leptacích masek pro následné selektivní mokré leptání monokrystalického křemíku. Kromě optimalizace tohoto procesu je studováno využití leptaného povrchu Si např. pro pozdější selektivní růst kovových materiálů. U leptaných, tvarově a rozměrově definovaných 2D, resp. 3D struktur je studium v některých případech zaměřeno i na jejich funkční vlastnosti.	cs
dc.description.abstract	Nowadays, the systems that allow simultaneous employment of both focused electron and ion beams are very important tools in the field of micro- and nanotechnology. In addition to imaging and analysis, they can be used for lithography, which is applied for preparation of structures with required shapes and dimensions at the micrometer and nanometer scale. The first part of the thesis deals with one lithographic method – focused electron or ion beam induced deposition, for which a suitable adjustment of exposition parameters is searched and quality of deposited metal structures in terms of shape and elemental composition studied. Subsequently, attention is paid also to other types of lithographic methods (electron or ion beam lithography), which are applied in preparation of etching masks for the subsequent selective wet etching of silicon single crystals. In addition to optimization of mentioned techniques, the application of etched silicon surfaces for, e.g., selective growth of metal structures has been studied. The last part of the thesis is focused on functional properties of selected 2D or 3D structures.	en
dc.description.mark	P	cs
dc.identifier.citation	ŠAMOŘIL, T. Aplikace fokusovaného iontového a elektronového svazku v nanotechnologiích [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2016.	cs
dc.identifier.other	89444	cs
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11012/51878
dc.language.iso	cs	cs
dc.publisher	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství	cs
dc.rights	Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení	cs
dc.subject	Fokusovaný iontový svazek	cs
dc.subject	gallium	cs
dc.subject	odprašování	cs
dc.subject	amorfizace	cs
dc.subject	depozice indukovaná fokusovaným elektronovým/iontovým svazkem	cs
dc.subject	selektivní růst	cs
dc.subject	mokré leptání	cs
dc.subject	hydroxid draselný	cs
dc.subject	FIB	cs
dc.subject	FEBID	cs
dc.subject	FIBID	cs
dc.subject	EBL	cs
dc.subject	Focused ion beam	en
dc.subject	galium	en
dc.subject	milling	en
dc.subject	amorphization	en
dc.subject	focused electron/ion beam induced deposition	en
dc.subject	selective growth	en
dc.subject	wet etching	en
dc.subject	potassium hydroxide	en
dc.subject	FIB	en
dc.subject	FEBID	en
dc.subject	FIBID	en
dc.subject	EBL	en
dc.title	Aplikace fokusovaného iontového a elektronového svazku v nanotechnologiích	cs
dc.title.alternative	Application onf the Focused Ion on Electron Beam in Nanotechnologies	en
dc.type	Text	cs
dc.type.driver	doctoralThesis	en
dc.type.evskp	dizertační práce	cs
dcterms.dateAccepted	2016-06-29	cs
dcterms.modified	2016-06-30-12:52:26	cs
eprints.affiliatedInstitution.faculty	Fakulta strojního inženýrství	cs
sync.item.dbid	89444	en
sync.item.dbtype	ZP	en
sync.item.insts	2021.11.12 15:29:53	en
sync.item.modts	2021.11.12 14:33:13	en
thesis.discipline	Fyzikální a materiálové inženýrství	cs
thesis.grantor	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrství	cs
thesis.level	Doktorský	cs
thesis.name	Ph.D.	cs

Aplikace fokusovaného iontového a elektronového svazku v nanotechnologiích

Files

Original bundle

Collections