Optimalizace tenkých oxidových vrstev kovových materiálů

but.committeeprof. Ing. Karel Bartušek, DrSc. (předseda) doc. Ing. Ivan Szendiuch, CSc. (místopředseda) doc. Ing. Petr Bača, Ph.D. (člen) Ing. Zdenka Rozsívalová (člen) Ing. Marek Bohrn, Ph.D. (člen) Ing. Karel Pospíšil (člen)cs
but.defenceJak při naprašování z hliníkového targetu vznikne nitrid hliníku? S jakou přesností jste měřil plošný odpor? Jak jste stanovoval průměrnou propustnost?cs
but.jazykčeština (Czech)
but.programElektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technikacs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorŠubarda, Jiřícs
dc.contributor.authorVítek, Jiřícs
dc.contributor.refereeŠimonová, Luciecs
dc.date.accessioned2019-05-17T03:29:06Z
dc.date.available2019-05-17T03:29:06Z
dc.date.created2014cs
dc.description.abstractTato diplomová práce je zaměřena na popis metody reaktivního naprašování tenkých vrstev. V současné době je mnoho způsobů vytváření tenkých filmů a mnoho aplikací tenkých vrstev v nejrůznějších průmyslových odvětvích. V této práci je nejprve uvedena problematika tenkých vrstev, následuje přehled nanášecích metod a chemické analýzy nanášených vrstev. Dále je popsána čtyřbodová metoda měření plošného odporu, mechanická zkouška adheze a optických vlastností. V závěru teoretické části jsou popsána materiálová složení nanášených vrstev. Cílem praktické části práce je optimalizovat proces depozice vrstvy směsného oxidu india a cínu (In2O3:SnO2) a přispět tak k celkovému porozumění vlivu žíhání na danou vrstvu. Bylo vytvořeno šest sérií vzorků s uvedenou nanášenou vrstvou. Nejdříve se zkoumal vliv žíhání na propustnost v celém měřícím rozsahu a následně se série porovnávaly vzhledem k propustnosti ve viditelné části světelného spektra. Dále se porovnávala hodnota plošného odporu u nežíhaných a následně žíhaných vzorků.cs
dc.description.abstractThis thesis is focused on the description of the method of reactive sputtering of thin films. Currently, there are many ways how to create thin films and there are many applications of thin films in various industrial sectors. In this paper at the first are listed the issue of thin films, followed by an overview of the deposition techniques and of the chemical analysis of deposited thin films. It also describes the four-point measurement method of sheet resistance, mechanical test of adhesion and optical properties. At the end of the theoretical part are described the material composition of the deposited films. The goal of the practical part is to optimize the deposition process of the mixed layer of indium tin oxide (In2O3: SnO2) and contribute to the overall understanding of the influence of annealing on the layer. There were created six series of samples with that applied layers. First, the work focused on examining of the influence of annealing on the throughput in the whole measuring range, and then comparing the series due to the transmittance in the visible light spectrum. Furthermore were compared the value of sheet resistance of unannealed and subsequently annealed samples.en
dc.description.markBcs
dc.identifier.citationVÍTEK, J. Optimalizace tenkých oxidových vrstev kovových materiálů [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014.cs
dc.identifier.other74372cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/33447
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectTechnologie povrchových úprav materiálůcs
dc.subjecttenké vrstvycs
dc.subjectmodifikace povrchucs
dc.subjectdepozicecs
dc.subjectmagnetronové naprašovánícs
dc.subjectžíhánícs
dc.subjectspektroskopiecs
dc.subjectčtyřbodová metoda měření plošného odporucs
dc.subjectITO.cs
dc.subjectSurface engineeringen
dc.subjectthin filmsen
dc.subjectsurface modificationen
dc.subjectdepositionen
dc.subjectmagnetron sputteringen
dc.subjectannealingen
dc.subjectspectroscopyen
dc.subjectfour-point measurement method of sheet resistanceen
dc.subjectITO.en
dc.titleOptimalizace tenkých oxidových vrstev kovových materiálůcs
dc.title.alternativeOptimization of thin films of metal oxide materialsen
dc.typeTextcs
dc.type.drivermasterThesisen
dc.type.evskpdiplomová prácecs
dcterms.dateAccepted2014-06-11cs
dcterms.modified2014-09-04-14:08:09cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
sync.item.dbid74372en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2021.11.12 11:13:05en
sync.item.modts2021.11.12 10:38:00en
thesis.disciplineElektrotechnická výroba a managementcs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav elektrotechnologiecs
thesis.levelInženýrskýcs
thesis.nameIng.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 2 of 2
Loading...
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
4.5 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Loading...
Thumbnail Image
Name:
review_74372.html
Size:
6.49 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
review_74372.html
Collections