Kombinovaná elektronová litografie

Simple item page
but.committeeprof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda) prof. Ing. Jaroslav Boušek, CSc. (člen) doc. Ing. Lukáš Fujcik, Ph.D. (člen) doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D. - oponent (člen) Ing. Marek Škereň, Ph.D. - oponent (člen) Ing. Miroslav Horáček, Ph.D. (člen)cs
but.defenceUchazeč seznámil s výsledky své disertační práce. Na dotazy odpovídal pohotově a správně. Obhajoba měla vynikající úroveň.cs
but.jazykčeština (Czech)
but.programElektrotechnika a komunikační technologiecs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorKolařík, Vladimírcs
dc.contributor.authorKrátký, Stanislavcs
dc.contributor.refereeMikulík, Petrcs
dc.contributor.refereeŠkereň,, Marekcs
dc.date.accessioned2021-04-21T06:58:28Z
dc.date.available2021-04-21T06:58:28Z
dc.date.created2021cs
dc.description.abstractTato práce se zabývá reliéfní elektronovou litografií a přípravou difrakčních optických elementů. Řešena jsou tři témata. Prvním tématem je reliéfní kombinovaná elektronová litografie, kde je cílem zkombinovat expozice dvou systémů s rozdílnou energií elektronů primárního svazku. Kombinovaná technika vede k efektivnějšímu využití jednotlivých systémů, kdy se různé struktury lépe připravují jinými energiemi elektronů v primárním svazku. Dalším tématem je optimalizace hranic objektů exponovaných struktur, které jsou definovány obrazovými vstupy. Zkoumá se vliv této optimalizace na rychlost přípravy expozičních dat, na dobu expozice a na optickou odezvu testovaných struktur. Třetím tématem je zkoumání možností přípravy hlubokých víceúrovňových difrakčních optických elementů do bloků plexiskla, jako náhrada soustavy rezist/substrát. S tím se pojí nový způsob zápisu, který minimalizuje teplotní zátěž na plexisklo během expozice elektronovým svazkem a zároveň zvyšuje homogenitu výsledného motivu. V této části byla dále navržena metoda výpočtu expozičních dávek specifických víceúrovňových struktur vycházející z existujících modelů pro výpočet korekcí jevu blízkosti, která minimalizuje čas výpočtu expozičních dávek.cs
dc.description.abstractThis thesis deals with grayscale e-beam lithography and diffractive optical elements fabrication. Three topics are addressed. The first topic is combined grayscale e-beam lithography. The goal of this task is combining exposures performed by two systems with various beam energies. This combined technique leads to a better usage of both systems because various structures can be more easily prepared by one electron beam energy than by the other. The next topic is the optimization of shape borders of exposing structures that are defined by image input. The influence of such optimization on exposure data preparation is evaluated, as well as the exposure time and the change of optical properties of testing structures. The possibility of deep multilevel diffractive optical element fabrication in plexiglass blocks is researched as the third topic. Plexiglass can replace the system of a resist and a substrate. A new approach to writing down the structures by electron beam is presented, minimizing thermal stress on the plexiglass block during the exposure. The writing method also improves the homogeneity of exposed motifs. A method for computing the exposure dose for specific multilevel structures was designed. This method is based on the existing model of proximity effect computation and it minimizes the computing time necessary to obtain the exposure doses.en
dc.description.markPcs
dc.identifier.citationKRÁTKÝ, S. Kombinovaná elektronová litografie [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2021.cs
dc.identifier.other129408cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/196542
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectReliéfní elektronová litografiecs
dc.subjecthybridní litografiecs
dc.subjectdifrakční optické elementycs
dc.subjectoptimalizace datové přípravycs
dc.subjectproximity efektcs
dc.subjectPMMAcs
dc.subjectplexisklo.cs
dc.subjectGrayscale e-beam lithographyen
dc.subjecthybrid lithographyen
dc.subjectdiffractive optical elementsen
dc.subjectoptimization of data preparationen
dc.subjectproximity effecten
dc.subjectPMMAen
dc.subjectplexiglass.en
dc.titleKombinovaná elektronová litografiecs
dc.title.alternativeCombined Electron Beam Lithographyen
dc.typeTextcs
dc.type.driverdoctoralThesisen
dc.type.evskpdizertační prácecs
dcterms.dateAccepted2021-04-20cs
dcterms.modified2021-04-22-10:29:33cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
sync.item.dbid129408en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2021.11.12 23:14:51en
sync.item.modts2021.11.12 22:15:33en
thesis.disciplineMikroelektronika a technologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektronikycs
thesis.levelDoktorskýcs
thesis.namePh.D.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 5 of 6
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
2.61 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
appendix-1.pdf
Size:
1.85 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
appendix-1.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
Posudek-Oponent prace-Posudek oponenta dr. Skeren_disertace Ing. Kratky.pdf
Size:
4.27 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek-Oponent prace-Posudek oponenta dr. Skeren_disertace Ing. Kratky.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
Posudek-Oponent prace-Posudek oponenta doc. Mikulik_disertace Ing. Kratky.pdf
Size:
198.27 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek-Oponent prace-Posudek oponenta doc. Mikulik_disertace Ing. Kratky.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
thesis-1.pdf
Size:
1.01 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
thesis-1.pdf
Download
Collections
2021